[实用新型]一种团簇离子束纳米加工装置

权利要求书

1.一种团簇离子束纳米加工装置，其特征在于，包括离子束偏转电路、两级加速腔以及系统控制板；所述两级加速腔内环绕设置有偏转线圈以及对应设置的磁环，所述离子束偏转电路分别与所述偏转线圈和系统控制板电连接，向偏转线圈提供锯齿波电流，产生径向、线性偏转磁场，所述两级加速腔前端设有分离孔，后端设有对撞孔，所述两级加速腔内设有正向环形通道和逆向环形通道，所述正向环形通道和逆向环形通道分别在所述分离孔和所述对撞孔处相交，所述两级加速腔内还设有与所述系统控制板电连接的两级加速电路，所述两级加速电路为分段串接的升压电路。

2.根据权利要求1所述的团簇离子束纳米加工装置，其特征在于，还包括物料预处理单元，所述物料预处理单元包括与所述两级加速腔前端连接的压力腔，与所述压力腔连接的负压发生器以及设置在所述压力腔内用于研磨物料的高速合金刀具。

3. 根据权利要求2所述的团簇离子束纳米加工装置，其特征在于，所述两级加速电路的一级加速电压为DC 600-700V，二级加速电压为DC 31000-33000V。

4.根据权利要求3所述的团簇离子束纳米加工装置，其特征在于，所述高速合金刀具径向分布在所述负压发生器上。

5.根据权利要求4所述的团簇离子束纳米加工装置，其特征在于，所述压力腔内还设有用于导向的导流板。

6.根据权利要求5所述的团簇离子束纳米加工装置，其特征在于，还包括与所述离子束偏转电路和两级加速电路电连接的过流过压保护电路。