[实用新型]阻隔膜、OLED器件及显示器

说明书

技术领域

本实用新型涉及膜技术领域，特别是涉及一种阻隔膜与包含该阻隔膜的OLED器件及显示器。

背景技术

目前，在电子和光器件领域，一些产品在完成之后需要在其表面贴附阻隔膜，以阻隔水汽等的进入，从而保证产品的性能。而无机物的阻水汽性能较好，常常被应用于阻隔膜，下简称无机物阻隔膜。无机物阻隔膜因其硬度高、化学稳定性好、热稳定性优良以及具有良好的绝缘性而得到广泛应用。常应用于阻隔膜的无机物阻隔膜有氮化硅(SiNx)，氧化硅等。

然而，无机物阻隔膜通常是使用气相沉积法将无机物沉积在衬底上形成水汽阻隔膜，在沉积的过程中产生的残余应力，使得无机物阻隔膜的应力较大，这也成为了限制无机物阻隔膜运用的一个关键因素。无机物阻隔膜经过多次弯折，或者弯折半径小的情况下，容易出现裂缝以及缺陷密度的增加等问题，从而导致产品性能的衰减。

目前，有以下几类方案来调控无机阻隔膜的应力。一种方案为，精细优化成膜条件，然而，成膜过程需要控制较多的工艺参数，使得优化过程非常复杂，且在将阻隔膜的应力优化至目标数值时，阻隔膜的其他性能也会发生改变或者减小，比如薄膜质量，杨氏模量，薄膜硬度，光学带隙等。另一种方案是修改薄膜沉积系统，例如，催化CVD(catalytical-CVD，catalytical cerebrovascular disease，催化化学气相沉积)和双频率PECVD(dual-frequency PECVD，Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，双频率等离子体增强化学气相沉积法)技术，然而这种方案成本太高，并且会对沉积的薄膜产生负面的影响，如，会掺杂杂质进入阻隔膜，使得阻隔膜的阻水汽性能较差。又一种方案是，在无机物层上面叠层设置有机物来改善无机物阻隔膜的应力性能，这样可以部分缓解无机物阻隔膜的高应力，但是有机物和无机物的性能不同，经过长时间放置或者长时间的弯折、折叠等操作后，有机物和无机物结合的界面处性能都会发生很大变化，使得阻隔膜的应力依旧较大。

上述调控阻隔膜应力的方案仍然存在着应力较大而使得阻隔膜的柔性性能较差的问题。此外，上述方案的工艺繁琐复杂，成本较高。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种柔性性能较好、工艺简单及成本较低的阻隔膜、OLED器件及显示器。

一种阻隔膜，包括衬底及设置在所述衬底表面的水汽阻隔层，所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置有凹凸部。

在其中一个实施例中，所述水汽阻隔层为氮化硅层、氧化硅层或氧化铝层。

在其中一个实施例中，所述凹凸部包括凹槽和凸起中至少一种。

在其中一个实施例中，所述凹凸部设置有多个凹槽，所述多个凹槽呈矩形阵列分布于所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上。

在其中一个实施例中，所述多个凹槽具有圆形开口或多边形开口。

在其中一个实施例中，所述多边形包括三角形、长方形、正方形、正五边形、正六边形和正八边形中的至少一种。

在其中一个实施例中，所述凹槽的深度为所述水汽阻隔层厚度的1％～10％。

在其中一个实施例中，还包括聚甲基丙烯酸甲酯层，所述聚甲基丙烯酸甲酯层设置于所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上。

一种OLED器件，其具有如上任一项所述的阻隔膜。

一种显示器，包括显示屏及如上任一实施例所述的阻隔膜，所述阻隔膜设置于所述显示屏外表面。

在其中一个实施例中，所述显示屏为OLED显示屏。

上述阻隔膜，通过在所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置凹凸部，能够降低所述阻隔膜的应力，在所述阻隔膜弯曲时不会产生挤压，使得所述阻隔膜的可折叠性能、弯曲性能较好，从而提高了所述阻隔膜的柔性性能。所述凹凸部通过刻蚀工艺或者采用半镂空的掩模板(mask)工艺等即可完成，工艺简单，且成本较低。

附图说明

图1为本实用新型一实施方式的阻隔膜的结构示意图；

图2为本实用新型另一实施方式的阻隔膜的结构示意图；

图3为本实用新型又一实施方式的阻隔膜的结构示意图；

图4为本实用新型又一实施方式的阻隔膜的结构示意图；

图5为本实用新型又一实施方式的阻隔膜的结构示意图。

具体实施方式