[实用新型]皮秒脉宽电光调Q激光器有效

专利信息
申请号: 201621354125.5 申请日: 2016-12-09
公开(公告)号: CN206313282U 公开(公告)日: 2017-07-07
发明(设计)人: 陈兆宇;孙丙中 申请(专利权)人: 北京镭宝光电技术有限公司
主分类号: H01S3/115 分类号: H01S3/115
代理公司: 北京市盛峰律师事务所11337 代理人: 于国富
地址: 100015 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 皮秒脉宽 电光 激光器
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及固体激光技术领域,尤其涉及一种皮秒脉宽电光调Q激光器。

背景技术

皮秒脉宽电光调Q激光器:百皮秒量级的脉冲激光器,在激光测距、激光雷达、激光加工、激光探测和激光医疗等领域有着广泛的应用。

目前该类型的激光器主要通过削波或者短腔退压调Q的方式来实现,削波的方法要求极短的时间内打开开关;短腔退压调Q利用退压调Q的方式节省腔内器件从而达到缩短腔长输出窄脉宽的目的。现有技术存在的不足体现为:削波方法虽然能实现百皮秒的激光输出,但是由于该方法对电路方面要求苛刻,稳定性差;而短腔退压调Q的方式,需要在Q开关上持续施加高压,会缩短Q开关的使用寿命,长期稳定性不佳。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种皮秒脉宽电光调Q激光器,从而解决现有技术中存在的前述问题。

为了实现上述目的,本实用新型所述皮秒脉宽电光调Q激光器,所述激光器包括从泵浦源沿光轴依次设置的泵浦耦合系统、45°反射镜、增益介质、1/4波片、Q开关和后镜;所述增益介质朝向1/4波片的端面为布儒斯特角,所述增益介质朝向45°反射镜的端面镀半透半反膜。

优选地,所述后镜是谐振腔0度全反镜。

优选地,所述Q开关为电光调Q器件。

优选地,所述Q开关加压调Q器件。

优选地,所述泵浦耦合系统为泵浦二极管激光的准直聚焦系统。

优选地,所述泵浦源为单二极管bar条或二极管阵列或光纤耦合二极管激光器。

本实用新型的有益效果是:

本实用新型在缩短腔长的基础上,采用加压调Q的方式,即保证了百皮秒量级的脉冲输出,又能长时间稳定可靠的运行,便于产品化、大规模生产。

附图说明

图1是皮秒脉宽电光调Q激光器的结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施方式仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。

实施例

本实施例所述皮秒脉宽电光调Q激光器,所述激光器包括从泵浦源7开始沿光轴依次设置的泵浦耦合系统6、45°反射镜5、增益介质4、1/4波片3、Q开关2和后镜1;所述增益介质4朝向45°反射镜5的端面为布儒斯特角,所述增益介质4朝向1/4波片3的端面镀半透半反膜,所述增益介质4等效于输出镜使用,这样省去了在墙内再插入偏振片和输出镜,更有利于激光器结构的紧凑。

(一)所述后镜1是谐振腔0度全反镜。

(二)所述Q开关2为电光调Q器件;本实施例中所述Q开关2加压调Q器件,有利于保持调Q开关的使用寿命。

(三)所示1/4波片3是加压调Q的必须器件,起相位延迟作用。

所示增益介质4是激光增益介质,例如:Nd:YAG晶体、Nd:YLF晶体、Nd:YVO4晶体等等,起粒子数反转作用,储存能量。增益介质4镀膜作为输出镜使用,可以有效减小静态光输出,提高调Q动态光的输出能量。

所示45°反射镜5是分光器件,即能透过泵浦光,又能反射所输出的激光。

(四)所述泵浦耦合系统6为泵浦二极管激光的准直聚焦系统。

所述泵浦源7是泵浦光发光源,为单二极管bar条或二极管阵列或光纤耦合二极管激光器。

从泵浦源7发出的光依次经过泵浦耦合系统6、45°反射镜5、增益介质4、1/4波片3、Q开关2后,被后镜1全反射后,再依次经过Q开关2和1/4波片3,最后被增益介质4反射。

通过采用本实用新型公开的上述技术方案,得到了如下有益的效果:

本实用新型在缩短腔长的基础上,采用加压调Q的方式,即保证了百皮秒量级的脉冲输出,又能长时间稳定可靠的运行,便于产品化、大规模生产。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视本实用新型的保护范围。

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