[实用新型]零件加工机械有效
申请号: | 201621304800.3 | 申请日: | 2016-11-30 |
公开(公告)号: | CN206263771U | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
发明(设计)人: | 周利虎;刘宇杰;宋军 | 申请(专利权)人: | 德米特(苏州)电子环保材料有限公司 |
主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00;B24B37/34;B24B57/00 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人: | 唐清凯 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 零件 加工 机械 | ||
技术领域
本实用新型涉及零部件加工技术领域,特别是涉及一种零件加工机械。
背景技术
零件加工机械在晶片加工行业中应用比较广泛,主要用于晶片的铜抛光与CMP抛光,属于高精密加工,产品尺寸的精度要求较高。
目前,研磨机在晶片的研磨抛光等精加工过程中所使用的研磨抛光液,在加工过程中容易流出操作台,影响研磨机周围的卫生环境。此外,在抛光操作过程抛光液会分解并发出刺激性气味,给操作用户带了诸多不便。
实用新型内容
基于此,有必要针对抛光液在加工过程中容易流出操作台、刺激性气味给操作用户带了诸多不便的技术问题,提供一种零件加工机械。
一种零件加工机械,该零件加工机械包括机架、第一调节臂、第二调节臂、驱动机构、抛光盘、研磨台及密封装置。所述第一调节臂与所述机架枢接,所述第二调节臂与所述第一调节臂铰接。所述驱动机构包括驱动电机及伸缩件,所述驱动电机设置于所述第二调节臂上,所述伸缩件设置于所述第二调节臂上。所述抛光盘设置于所述伸缩件的末端并通过穿设于所述伸缩件的驱动轴与所述驱动电机的转子连接。所述研磨台包括承载盘和集液板,所述承载盘设置于所述集液板的中部区域,所述集液板设置于所述机架上,所述集液板具有多个集液槽,多个所述集液槽围绕所述承载盘分布。所述密封装置包括透明密封箱和排气管,所述透明密封箱具有开口,所述透明密封箱用于通过所述开口盖设所述研磨台,所述透明密封箱的顶部与所述伸缩件连接,所述抛光盘收容于所述透明密封箱中,所述排气管的一端连通所述透明密封箱的内部,另一端用于连通外部。
在其中一个实施例中,所述透明密封箱为一侧开口的中空长方体。
在其中一个实施例中,所述透明密封箱于所述开口的边缘设置有密封圈。
在其中一个实施例中,所述透明密封箱设置有连通所述透明密封箱内部的操作口以及盖设所述操作口的窗体。
在其中一个实施例中,所述窗体与所述操作口的边缘密封连接。
在其中一个实施例中,所述密封装置还包括抽真空机,所述抽真空机设置于所述第二调节臂上,所述抽真空机的输入端与所述排气管连通。
上述零件加工机械,通过第二调节臂与第一调节臂,可以将抛光盘移动到研磨台的上方位置,待加工部件放置在承载盘后,通过伸缩件调节抛光盘与承载盘的距离,并在驱动电机的驱动下对放置在承载盘上的待加工部件进行研磨抛光处理,由于集液板具有多个集液槽,且多个集液槽围绕承载盘分布,使得在研磨抛光过程中加入的抛光液可以汇集在多个集液槽中,待加工操作完成后在进行统一处理,如此解决了抛光液在加工过程中容易流出操作台的技术问题,并且提高了工作环境的卫生,从而提高了研磨抛光的效率;此外,在透明密封箱的罩设下,抛光操作过程抛光液分解并发出刺激性气味可从排气管排出至外部,提高了环境卫生,给操作用户创造良好的工作环境。
附图说明
图1为一个实施例中零件加工机械的结构示意图;
图2为一个实施例中零件加工机械的另一视角的结构示意图;
图3为另一个实施例中零件加工机械的结构示意图;
图4为另一个实施例中零件加工机械的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进,因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德米特(苏州)电子环保材料有限公司,未经德米特(苏州)电子环保材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201621304800.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种珩磨头金刚石珩磨条归圆的快速定心机构
- 下一篇:一种内圆锥面研磨装置