[实用新型]研磨垫

说明书

技术领域

本实用新型涉及研磨垫。

背景技术

以往，在对具有平面和曲面的被研磨物的研磨中，使用抛光轮 (buff)是已知的(专利文献1)。在专利文献1中，想要使研磨面上产生缓冲作用从而降低其与被研磨物之间的摩擦阻力，因而提出了下述抛光轮，其中，在铺设于旋转板表面的基布的表面上，多张带状的研磨布以彼此具有适宜间隔的方式从旋转板的中心呈放射状配置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平10-15835号公报

实用新型内容

实用新型所要解决的课题

然而，抛光轮缺少对被研磨物表面的追随性，要研磨平面及曲面时，需要一边改变接触的位置及角度一边进行研磨，因此，研磨工序变得复杂，从成本的观点考虑存在问题。另外，也可考虑代替抛光轮而使用下述研磨垫对具有平面和曲面的被研磨物进行研磨，所述研磨垫是在海绵、无纺布中含浸树脂而得到的，其中，为了实现对曲面的追随性而在研磨表面上形成有槽。但是，仅通过形成槽以试图提高对曲面的追随性的研磨垫存在容易使被研磨物的表面产生来自槽的研磨痕迹的问题。此外，在为了使如上所述地形成有槽的研磨垫追随被研磨物而将该研磨垫弯曲时，在被槽夹住的脊面部的尤其是接近槽的部分中会被施以负荷，脊面部变得容易破损·脱落，结果，会使被研磨物上产生划伤等缺陷。此外，在使用无纺布的情况下，也有可能由于纤维的脱落而使被研磨物上产生划伤等缺陷。

因此，在对具有平面及曲面、进而还具有侧面(其为朝向与平面不同的方向的面，通常介由曲面而与平面相连接。)的玻璃、金属壳体的这些表面进行镜面研磨时，需要在使用平面研磨机时不仅能对平面进行研磨而且还能对曲面及侧面进行研磨、并且不会使研磨后的被研磨物表面产生研磨痕迹的研磨垫。

本实用新型是鉴于上述情况而作出的，目的在于提供下述研磨垫，所述研磨垫使得在使用平面研磨机时不仅能对被研磨物所具有的平面进行研磨而且还能对曲面及侧面进行研磨，并且能够确保研磨面品质。

用于解决课题的手段

为了解决上述课题，本申请的发明人进行了锐意研究。结果发现，若为构成是具备通过除去针织物的表面而形成有绒头的基材、并且该基材含浸有树脂的研磨垫，则能够解决上述课题，从而完成了本实用新型。

即，本实用新型如下所述。

〔1〕研磨垫，所述研磨垫具有：

基材，所述基材具有配置有绒头的研磨面和连接所述绒头的一端的连接部；和

含浸于该基材中的树脂，

所述研磨垫至少满足下述条件：

所述绒头来自于具有形成表面背面的表面背面纤维和连接所述表面背面的中间纤维的针织物中的所述中间纤维，所述针织物是以经编或纬编构成的针织物；

所述连接部来自于所述表面背面纤维中的任一方。

〔2〕如〔1〕所述的研磨垫，其中，所述绒头的平均长度为0.5～20 mm。

〔3〕如〔1〕或〔2〕所述的研磨垫，其中，所述绒头为原纱(日文：なま糸)。

〔4〕如〔1〕～〔3〕中任一项所述的研磨垫，其中，所述树脂包含聚碳酸酯系聚氨酯树脂。

〔5〕如〔1〕～〔4〕中任一项所述的研磨垫，其中，含浸有所述树脂的所述基材的肖氏A硬度为0～30°。

〔6〕如〔1〕～〔5〕中任一项所述的研磨垫，其中，含浸有所述树脂的所述基材的压缩弹性模量为50～98％。

〔7〕如〔1〕～〔6〕中任一项所述的研磨垫，其中，构成所述针织物的单纱的数均直径为3～500μm。

〔8〕如〔1〕～〔7〕中任一项所述的研磨垫，其中，含浸有所述树脂的所述基材的压缩变形量为0.5～15mm。

〔9〕如〔1〕～〔8〕中任一项所述的研磨垫，其中，含浸有所述树脂的所述基材的厚度为1～22mm。

〔10〕如〔1〕～〔9〕中任一项所述的研磨垫，其中，在所述基材的与所述研磨面相反的一侧还具有缓冲层。

实用新型的效果

通过本实用新型，可提供下述研磨垫，所述研磨垫使得在使用平面研磨机时不仅能对被研磨物所具有的平面进行研磨而且还能对曲面及侧面进行研磨，并且能够确保研磨面品质。

附图说明

[图1]是表示本实施方式的研磨垫的制造方法中的表面除去工序的概念图。

[图2]是表示实施例的研磨试验中使用的托架(carrier)的概念图。

[图3]是将图2的A-A’线切剖的剖面图。

[图4]用于说明实施例的研磨试验的概念图。