[实用新型]一种匀化光斑的装置及系统

权利要求书

1.一种匀化光斑的装置，其特征在于，所述装置包括：入射面和出射面；其中，

所述入射面包括非均匀排列的微单元阵列，所述微单元阵列用于将入射到所述入射面上的光束进行扩束；

所述出射面用于将经所述微单元阵列扩束后的光束出射。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述微单元为凸面结构，所述凸面结构为：凸柱面、或凸球面、或凸非球面；所述非均匀排列为各个凸面微单元之间中心间距相同，曲率半径不同。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述微单元为凹面结构，所述凹面结构为：凹柱面、或凹球面、或凹非球面；所述非均匀排列为各个凹面微单元之间中心间距相同，曲率半径不同。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述微单元为锯齿形结构，所述锯齿形结构为：锯齿形柱面、或锯齿形球面、或锯齿形非球面；所述非均匀排列为各个锯齿形微单元之间中心间距不同，且夹角不同。

5.根据权利要求2至4任一项所述的装置，其特征在于，所述非均匀排列的微单元阵列从中间到两侧，曲率半径或夹角由小到大渐变。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置包括透镜。

7.一种匀化光斑的系统，其特征在于，所述系统包括：权利要求1至6任一项所述匀化光斑的装置、第一整形装置、以及第二整形装置；其中，

所述第一整形装置，设置在光束出光方向上，位于所述匀化光斑装置的前端，用于对光束进行准直和扩束，使得经准直和扩束后的光束与所述匀化光斑装置相匹配；

所述第二整形装置，设置在光束出光方向上，位于所述匀化光斑装置的后端，用于对光束进行扩束。

8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述第一整形装置的数量为一个或多个，所述第二整形装置的数量为一个或多个。