[实用新型]掩膜支撑结构有效
申请号: | 201621265599.2 | 申请日: | 2016-11-23 |
公开(公告)号: | CN206270648U | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
发明(设计)人: | 龚建国;罗武峰;冉应刚;杨颖;吴俊雄;柯贤军;苏君海;李建华 | 申请(专利权)人: | 信利(惠州)智能显示有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人: | 邓云鹏 |
地址: | 516029 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 支撑 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及掩膜板技术领域,特别是涉及一种掩膜支撑结构。
背景技术
目前,传统大开口的掩膜板的一体式支撑架存在的问题有以下两点:第一、传统制作方法是在框架上焊接整张网,即焊接的一体式支撑架,所以在制作过程中,张网需考虑整体的位置精度、受力,制作工艺复杂,耗时较长;第二、传统大开口掩膜板是一个整体,一旦有部分位置意外损坏,整张一体式支撑架随之报废,使用成本高。
针对传统大开口掩膜板具有成本高且无法局部修复等缺陷,市面上出现了了一种新型的大开口掩膜板结构,即使用支撑条和遮挡条制作大开口掩膜板的支撑架,由于遮挡条和支撑条价格低廉,制作结构成本低,且由于遮挡条与支撑条都是单独焊接,如支撑架出现部分位置损坏,可以直接将相应位置的遮挡条或者支撑条拆除,重新焊接,这样可以大幅度提高大开口掩膜板的支撑架的使用寿命。
然而,由于遮挡条和支撑条分别具有一定的厚度,两者在连接交叉位置处的厚度相当于遮挡条和支撑条的厚度之和,这样,会导致遮挡条和支撑条在交叉连接位置处产生局部的弯折变形的问题,当将掩膜板放置在遮挡条上时,容易出现掩膜板与遮挡条之间贴合不够紧密的问题。
实用新型内容
基于此,有必要提供一种遮挡条和支撑条在连接交叉位置处不易变形以及能够使掩膜板与遮挡条较紧密贴合的掩膜支撑结构。
一种掩膜支撑结构,包括框架及支撑架,所述框架具有中空结构,所述框架具有相对设置的两个第一侧边以及相对设置的两个第二侧边,所述支撑架包括支撑条和遮挡条,所述支撑条的两个端部分别与两个所述第一侧边连接,所述遮挡条的两个端部分别与两个所述第二侧边连接,其特征在于,
所述掩膜支撑结构在所述支撑条与所述遮挡条的连接交叉位置处设置以下结构:所述支撑条开设有第一嵌置槽,所述遮挡条开设有第二嵌置槽,所述第一嵌置槽与所述第二嵌置槽相对齐,以使所述支撑条与所述遮挡条相互嵌置。
在其中一个实施例中,还包括掩膜板,所述掩膜板设置于所述遮挡条上。
在其中一个实施例中,所述支撑条与所述遮挡条垂直连接。
在其中一个实施例中,所述支撑条的厚度与所述遮挡条的厚度相同。
在其中一个实施例中,所述第一嵌置槽的深度为所述支撑条的厚度的二分之一。
在其中一个实施例中,所述第二嵌置槽的深度为所述遮挡条的厚度的二分之一。
在其中一个实施例中,所述支撑条具有长方体结构。
在其中一个实施例中,所述遮挡条具有长方体结构。
在其中一个实施例中,所述第一嵌置槽的宽度与所述遮挡条的宽度相同,所述第二嵌置槽的宽度与所述支撑条的厚度相同。
在其中一个实施例中,所述支撑架设置多个所述支撑条及多个所述遮挡条,各所述支撑条间隔设置,各所述遮挡条间隔设置,各所述支撑条及所述各所述遮挡条连接形成网状结构。
上述掩膜支撑结构的支撑条和遮挡条通过第一嵌置槽与第二嵌置槽相对齐,能够减轻支撑条与遮挡条在连接交叉位置处厚度较大的问题,从而能够有效缓解支撑条和遮挡条在连接交叉位置处的变形问题,当将掩膜板放置在遮挡条上时,能够使遮挡条与掩膜板贴合地更加紧密。
附图说明
图1为本实用新型一实施方式的掩膜支撑结构的结构示意图;
图2为图1所示的掩膜支撑结构的另一视角的结构示意图;
图3为本实用新型一实施方式的支撑条和遮挡条的结构示意图;
图4为图3在A处的放大图。
具体实施方式
为了便于理解本实用新型,下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施方式。但是,本实用新型可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施方式。相反地,提供这些实施方式的目的是使对本实用新型的公开内容理解的更加透彻全面。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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