[实用新型]基板翻转装置及具备其的化学机械研磨系统

权利要求书

1.一种基板翻转装置，其用于化学机械研磨工艺，所述基板翻转装置的特征在于，包括：

可动组件，其以可靠近及离开基板被卸载的卸载位置的形式设置；

夹紧组件，其连接于所述可动组件并夹紧所述基板；

所述夹紧组件有选择地靠近及离开所述卸载位置。

2.根据权利要求1所述的基板翻转装置，其特征在于，

所述卸载位置设置在对完成化学机械研磨工艺的所述基板进行移送的载体头的移送路径上。

3.根据权利要求1所述的基板翻转装置，其特征在于，

在所述卸载位置可加载用于执行化学机械研磨工艺的其他基板。

4.根据权利要求1所述的基板翻转装置，其特征在于，还包括：

驱动组件，其提供使所述可动组件沿着靠近及离开所述卸载位置的方向直线移动的驱动力。

5.根据权利要求1所述的基板翻转装置，其特征在于，还包括：

旋转组件，其以可翻转旋转的形式连接于所述可动组件，

所述夹紧组件连接于所述旋转组件，通过所述旋转组件有选择地针对所述可动组件进行翻转旋转。

6.根据权利要求1所述的基板翻转装置，其特征在于，

所述夹紧组件包括：

侧面夹紧部，其在内侧形成基板收纳部并对所述基板的侧面进行支撑；

研磨面支撑部件，其设置在所述基板收纳部的内侧并对所述基板的研磨面进行支撑。

7.根据权利要求6所述的基板翻转装置，其特征在于，

在所述研磨面支撑部件形成倾斜引导部，

所述基板的研磨面边缘与所述倾斜引导部接触。

8.根据权利要求7所述的基板翻转装置，其特征在于，

在所述倾斜引导部的前端形成导槽部，所述基板的研磨面边缘沿着所述导槽部接触。

9.根据权利要求6所述的基板翻转装置，其特征在于，

所述侧面夹紧部包括：

第一夹紧部件；

第二夹紧部件，其设置为和所述第一夹紧部件相对且可沿着靠近及离开所述第一夹紧部件的方向直线移动，

在所述基板的研磨面因所述研磨面支撑部件而得到支撑的状态下，所述第一夹紧部件及所述第二夹紧部件相互靠近并对所述基板的侧面进行支撑。

10.根据权利要求6所述的基板翻转装置，其特征在于，还包括：

非研磨面支撑部件，其设置于所述基板收纳部的内侧，并对所述基板的非研磨面进行支撑。

11.一种化学机械研磨系统，其特征在于，包括：

研磨部，其针对基板进行化学机械研磨工艺；

载体头，其在所述研磨部的区域上沿着既定的循环路径对所述基板进行移送；

可动组件，其以可靠近及离开设置在所述载体头的所述循环路径上的所述基板的卸载位置的形式设置；

夹紧组件，其连接所述可动组件并夹紧所述基板；

所述夹紧组件有选择地靠近以及离开所述卸载位置。

12.根据权利要求11所述的化学机械研磨系统，其特征在于，

在所述卸载位置上可以加载用于执行化学机械研磨工艺的其他基板。

13.根据权利要求11所述的化学机械研磨系统，其特征在于，还包括：

驱动组件，其提供使所述可动组件沿着靠近及离开所述卸载位置的方向直线移动的驱动力。

14.根据权利要求11所述的化学机械研磨系统，其特征在于，还包括：

旋转组件，其以可翻转旋转的形式连接于所述可动组件，

所述夹紧组件连接于所述旋转组件，并通过所述旋转组件有选择地对所述可动组件进行翻转旋转。

15.根据权利要求11所述的化学机械研磨系统，其特征在于，

所述夹紧组件包括：

侧面夹紧部，其在内侧形成基板收纳部，并对所述基板的侧面进行支撑；

研磨面支撑部件，其设置在所述基板收纳部的内侧，并对所述基板的研磨面进行支撑。

16.根据权利要求15所述的化学机械研磨系统，其特征在于，

在所述研磨面支撑部件形成倾斜引导部，

所述基板的研磨面边缘与所述倾斜引导部接触。