[实用新型]极片涂层清除装置有效
申请号: | 201621204193.3 | 申请日: | 2016-11-08 |
公开(公告)号: | CN206148531U | 公开(公告)日: | 2017-05-03 |
发明(设计)人: | 邹浒;李俊义;徐延铭 | 申请(专利权)人: | 珠海光宇电池有限公司 |
主分类号: | H01M4/04 | 分类号: | H01M4/04;H01M4/139 |
代理公司: | 广东朗乾律师事务所44291 | 代理人: | 杨焕军 |
地址: | 519180 广东省珠*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涂层 清除 装置 | ||
1.极片涂层清除装置,包括用于放置极片的清洗平台、位于所述清洗平台上方的激光头,其特征在于:
所述清洗平台内设置有流通冷却液体的循环冷却管道;
所述清洗平台上设置有压块,所述压块压在极片上,所述压块上设置有通槽,所述通槽与极片上待清洗区域对应,所述通槽的侧壁上设置有真空吸嘴,所述压块内设置有与所述真空吸嘴连通的真空管路。
2.根据权利要求1所述的极片涂层清除装置,其特征在于:所述真空吸嘴设置于所述通槽的一个或多个侧壁上。
3.根据权利要求1所述的极片涂层清除装置,其特征在于:所述压块内设置有流通冷却液体的循环冷却管道。
4.根据权利要求1所述的极片涂层清除装置,其特征在于:所述真空吸嘴的真空度为-10~-90Kpa。
5.根据权利要求1或3所述的极片涂层清除装置,其特征在于:所述循环冷却管道与外部冷却循环系统连通。
6.根据权利要求1所述的极片涂层清除装置,其特征在于:所述真空管路与抽真空系统连通。
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