[实用新型]一种掩模片及掩模板有效

专利信息
申请号: 201621188590.6 申请日: 2016-10-28
公开(公告)号: CN206512267U 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 孙朴;李旭伟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 掩模片 模板
【权利要求书】:

1.一种掩模片,包括通过切割线划分的掩模区以及夹具区,所述掩模区包括有效蒸镀区,所述夹具区包括多个夹具端部;其特征在于,

所述掩模区还包括:设置在所述有效蒸镀区靠近所述夹具区一侧的多个褶皱释放区;

所述褶皱释放区包括间隔排布的多个条形开口,所述条形开口的长度方向与拉伸方向非平行。

2.根据权利要求1所述的掩模片,其特征在于,针对所述掩模片顶角位置处的任一个所述夹具端部,所述掩模区在靠近所述夹具端部设置有一个所述褶皱释放区。

3.根据权利要求1所述的掩模片,其特征在于,所述有效蒸镀区中的蒸镀开口的形状为孔型。

4.根据权利要求1所述的掩模片,其特征在于,所述褶皱释放区的外围轮廓的拐角处为弧形形状。

5.根据权利要求4所述的掩模片,其特征在于,所述褶皱释放区的外围轮廓的长度方向趋于拉伸方向。

6.根据权利要求4所述的掩模片,其特征在于,所述褶皱释放区的外围轮廓的形状为椭圆形。

7.根据权利要求1所述的掩模片,其特征在于,所述褶皱释放区到所述切割线的距离大于等于0.25L,所述褶皱释放区到所述有效蒸镀区的距离大于等于0.25L;

其中,L为所述切割线到所述有效蒸镀区的距离。

8.根据权利要求1-7任一项所述的掩模片,其特征在于,所述褶皱释放区与所述夹具端部一一对应。

9.根据权利要求1-7任一项所述的掩模片,其特征在于,所述褶皱释放区沿拉伸方向的中线与所述夹具端部沿拉伸方向的中心线在一条直线上。

10.一种掩模板,其特征在于,包括框架,以及固定于所述框架上的权利要求1-9任一项所述的掩模片。

11.根据权利要求10所述的掩模板,其特征在于,沿所述掩模片上的切割线,夹具区被切除。

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