[实用新型]一种用于定制义齿的抛光设备有效
申请号: | 201621144749.4 | 申请日: | 2016-10-21 |
公开(公告)号: | CN206185676U | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
发明(设计)人: | 周勇 | 申请(专利权)人: | 上海祥舒齿科技术有限公司 |
主分类号: | B24B31/033 | 分类号: | B24B31/033;A61C13/08 |
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地址: | 200072 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 定制 义齿 抛光 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种抛光设备,特别涉及一种用于定制义齿的抛光设备。
背景技术
目前,在医院口腔科对病人进行安装义齿时,首先要对铸造义齿支架、基托等零件进行喷砂处理,再进行抛光打磨;目前这些工序大多采用手工操作,在制作时劳动强度大,费时费力,也有些采用滚筒抛光机来完成,但是抛光滚筒的转速难以控制,从而导致抛光质量较差,零件表面加工精度低,难以满足使用的要求。为此,我们提出一种用于定制义齿的抛光设备。
发明内容
本实用新型的主要目的在于提供一种用于定制义齿的抛光设备,通过设置的抛光罐和动力电机,可以有效解决背景技术中的问题。
为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:
一种用于定制义齿的抛光设备,包括下箱体、壳体、上盖、工作舱、抛光罐、操作面板、动力电机、传动轴承、传动杆和密封条,所述下箱体内部设置有动力电机,所述下箱体上端设置有壳体,所述壳体上端设置有上盖,所述壳体内部设置有工作舱,所述工作舱下端设置有传动轴承,所述工作舱内部设置有固定架,所述固定架内部连接有抛光罐,所述抛光罐内部设置有抛光粒,所述动力电机通过传动杆与抛光罐连接,所述动力电机一侧设置有操作面板,所述操作面板上端设置有显示屏,所述显示屏下端设置有操作按键。
进一步地,所述下箱体底端设置有支腿。
进一步地,所述壳体内部夹层设置有隔音棉。
进一步地,所述壳体与上盖之间设置有密封条。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:通过设置的抛光罐可将义齿放置于罐内进行抛光操作,通过设置的动力电机可为抛光罐提供动力,通过设置的抛光粒可增大抛光力度,可提高工作效率,通过设置的固定架可提高抛光罐工作时的稳定性,通过设置的隔音棉可减少装置工作时所产生的噪音,通过设置的密封条可增加上盖与壳体之间的密封性,通过设置的支腿可提高装置的稳定性。
【附图说明】
图1为本实用新型用于定制义齿的抛光设备的整体结构示意图。
图中:1、下箱体;2、壳体;3、上盖;4、工作舱;5、固定架;6、抛光粒;7、抛光罐;8、隔音棉;9、显示屏;10、操作面板;11、操作按键;12、动力电机;13、传动轴承;14、传动杆;15、支腿;16、密封条。
【具体实施方式】
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。
如图1所示,一种用于定制义齿的抛光设备,包括下箱体1、壳体2、上盖3、工作舱4、抛光罐7、操作面板10、动力电机12、传动轴承13、传动杆14和密封条16,所述下箱体1内部设置有动力电机12,所述下箱体1上端设置有壳体2,所述壳体2上端设置有上盖3,所述壳体2内部设置有工作舱4,所述工作舱4下端设置有传动轴承13,所述工作舱4内部设置有固定架5,所述固定架5内部连接有抛光罐7,所述抛光罐7内部设置有抛光粒6,所述动力电机12通过传动杆14与抛光罐7连接,所述动力电机12一侧设置有操作面板10,所述操作面板10上端设置有显示屏9,所述显示屏9下端设置有操作按键11。
本实用新型用于定制义齿的抛光设备,通过设置的抛光罐7可将义齿放置于罐内进行抛光操作,通过设置的动力电机12可为抛光罐7提供动力,通过设置的抛光粒6可增大抛光力度,可提高工作效率,通过设置的固定架5可提高抛光罐7工作时的稳定性,通过设置的隔音棉8可减少装置工作时所产生的噪音,通过设置的密封条16可增加上盖3与壳体2之间的密封性,通过设置的支腿15可提高装置的稳定性。
其中,所述下箱体1底端设置有支腿15,可提高装置的稳定性。
其中,所述壳体2内部夹层设置有隔音棉8,可减少装置工作时所产生的噪音。
其中,所述壳体2与上盖3之间设置有密封条16,可增加上盖3与壳体2之间的密封性。
需要说明的是,本实用新型为一种用于定制义齿的抛光设备,工作时,连接电源,通过控制面板10对动力电机12发出指令,动力电机12通过传动轴14带动抛光罐7旋转,抛光罐7内部的抛光粒6可在离心运动下对义齿进行打磨抛光,代替传统手工打磨,可提高工作效率。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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