[实用新型]陶瓷碗坯内表面自动施釉设备

说明书

技术领域

本实用新型属于陶瓷碗生产设备的技术领域，尤其涉及一种陶瓷碗坯内表面自动施釉设备 。

背景技术

传统陶瓷碗坯的施釉工艺一般采用浸釉，也就是将整个陶瓷碗坯浸没到釉池中，但浸釉工艺必然同时对陶瓷碗8的内表面（如图1中的EFG所示表面）和外表面（如图1中的HMN所示表面）进行上釉，而且内表面和外表面所施加的釉料只能是同一种。

随着人们对陶瓷碗外观档次追求的不断提升，市场上出现了内表面和外表面色泽不一致的陶瓷碗，为此需要分别对陶瓷碗的内表面和外表面进行上釉，而且在对内表面上釉过程中，既要使釉料均匀都覆上内表面的所有区域，又要确保釉料不会污染到陶瓷碗外表面，反之亦然。

显然，内表面和外表面设计色泽不一致的陶瓷碗不适合于采用浸釉的工艺，现有技术中，人们一般只能采用手工对外表面和内表面分别喷釉的方式，但手工喷釉速度慢，人工成本高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述缺点而提供一种陶瓷碗坯内表面自动施釉设备，它能够实现自动对陶瓷碗坯内表面的均匀上釉，且不会污染到陶瓷碗坯的外表面。

其目的可以按以下方案实现：一种陶瓷碗坯内表面自动施釉设备，包括釉池，其主要特点在于，在釉池的正上方固定安装有圆锥形的导釉块，圆锥形导釉块的锥角为60°～80°，圆锥形导釉块的底面直径大于所配合使用的陶瓷碗坯的碗口直径；在圆锥形导釉块中央部位开设有竖向的中央贯穿孔，中央贯穿孔的上端开口于圆锥形导釉块的圆锥顶点位置，中央贯穿孔的下端连接有导釉管，导釉管的另一端管口连通釉池的池腔，导釉管还连接有液泵；在圆锥形导釉块中还沿周向均匀形成有多个回流孔，各个回流孔上端的孔口开口位于圆锥形导釉块的圆锥面中间，且回流孔上端的孔口与圆锥形导釉块中心轴线之间的水平距离小于所配套陶瓷碗坯的碗口半径；各个回流孔下端的孔口朝向釉池的池腔。

在圆锥形导釉块的旁边还设有机械手，机械手末端连接有吸盘，吸盘位于圆锥形导釉块的上方，吸盘中央设有吸气孔，吸气孔通过吸气管连接到外界的负压源。

所谓圆锥形导釉块的锥角，是指经过圆锥形导釉块的中心轴线的竖向截面的两条母线之间的夹角。

本实用新型具有以下优点和效果：

本实用新型在施釉时，将陶瓷碗坯倒扣到圆锥形导釉块上面，陶瓷碗坯的碗口边沿直接接触到圆锥形导釉块的圆锥表面，陶瓷碗坯的内表面和圆锥形导釉块的圆锥表面之间夹合后形成一个可以容纳釉料的临时腔室；同时，液泵将釉池中的釉料通过导釉管抽向中央贯穿孔，并由中央贯穿孔向上喷射出来，射向陶瓷碗坯的内表面，然后一部分釉料通过回流孔排走，来不及排走的釉料积存在临时腔室中，因此可以对陶瓷碗坯的内表面形成类似于浸釉的效果，实现对陶瓷碗坯内表面的均匀上釉；另一方面，陶瓷碗坯的碗口边沿与圆锥形导釉块圆锥表面之间的缝隙很小，临时腔室中的釉料大部分通过圆锥形导釉块的回流孔排走，只有微量的釉料通过陶瓷碗坯的碗口边沿与圆锥形导釉块圆锥表面之间的缝隙泄出，但由于通过缝隙排走的釉量很少，且排出后釉量立即再沿倾斜的圆锥面向下流走，因此不会污染到陶瓷碗坯的外表面。

附图说明

图1是陶瓷碗坯的内外表面部位示意图。

图2是本实用新型一种具体实施例的结构及使用状态示意图。

图3是图2中B-B剖面示意图。

图4是图2所示使用状态的釉料流动示意图。

具体实施方式

图2、图3所示的一种陶瓷碗坯内表面自动施釉设备包括釉池1，在釉池1的正上方固定安装有圆锥形导釉块2，圆锥形导釉块2的锥角（如图2中∠CAD所示）为70°，圆锥形导釉块2的底面直径（如图2中CD所示）大于所配盒使用的陶瓷碗坯8的碗口直径；在圆锥形导釉块2中央部位开设有竖向的中央贯穿孔21，中央贯穿孔21的上端开口于圆锥形导釉块2的圆锥顶点位置，中央贯穿孔21的下端连接有导釉管22，导釉管22的另一端管口连通釉池的池腔10，导釉管22还连接有液泵23；在圆锥形导釉块2中还沿周向均匀形成有多个回流孔24，各个回流孔24上端的孔口开口位于圆锥形导釉块2的圆锥面中间，且回流孔24上端的孔口与圆锥形导釉块2中心轴线m之间的水平距离小于所配套陶瓷碗坯8的碗口半径；各个回流孔24下端的孔口朝向釉池的池腔10。

在圆锥形导釉块2的旁边还设有机械手3，机械手3末端连接有吸盘4，吸盘4位于圆锥形导釉块2的上方，吸盘4中央设有吸气孔41，吸气孔41通过吸气管42连接到外界的负压源。

上述实施例工作过程及原理如下：

施釉时，将陶瓷碗坯8倒扣到圆锥形导釉块2上面，陶瓷碗坯8的碗口边沿直接接触到圆锥形导釉块2的圆锥表面，陶瓷碗坯8的内表面和圆锥形导釉块2的圆锥表面之间夹合后形成一个可以容纳釉料的临时腔室80；同时，液泵23将釉池1中的釉料通过导釉管22抽向中央贯穿孔21，并由中央贯穿孔21向上喷射出来，射向陶瓷碗坯8的内表面，如图4箭头所示，然后一部分釉料通过回流孔24排走，来不及排走的釉料积存在临时腔室80中，因此可以对陶瓷碗坯的内表面形成类似于浸釉的效果，实现对陶瓷碗坯8内表面的均匀上釉；另一方面，陶瓷碗坯8的碗口边沿与圆锥形导釉块2的圆锥表面之间的缝隙很小，临时腔室20中的釉料大部分通过圆锥形导釉块的回流孔24排走，只有微量的釉料通过陶瓷碗坯8的碗口边沿与圆锥形导釉块圆锥表面之间的缝隙泄出，但由于通过缝隙排走的釉量很少，且排出后釉量立即再沿倾斜的圆锥面向下流走，因此不会污染到陶瓷碗坯8的外表面；陶瓷碗坯8内表面均匀上釉完成后，可以由机械手3将陶瓷碗坯8从圆锥形导釉块2上面吸走，吸走时由吸盘4利用负压吸住陶瓷碗坯8的底面。