[实用新型]足用浮动按摩组件和足浴器有效
申请号: | 201620993117.9 | 申请日: | 2016-08-29 |
公开(公告)号: | CN206334104U | 公开(公告)日: | 2017-07-18 |
发明(设计)人: | 孙殷贤;梁朝华;李杰淳;石海杰 | 申请(专利权)人: | 芜湖蓓慈电器有限公司 |
主分类号: | A61H39/04 | 分类号: | A61H39/04;A47K3/022 |
代理公司: | 合肥市上嘉专利代理事务所(普通合伙)34125 | 代理人: | 王伟 |
地址: | 241000 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 浮动 按摩 组件 足浴器 | ||
1.一种足用浮动按摩组件,其特征在于,包括:
中心支架,由电动装置驱动旋转;
多个第一按摩轴,浮动设置在所述中心支架的外周上并且各所述第一按摩轴能够围绕自身轴线转动;
多个第二按摩轴,固定设置在所述中心支架的外周上并且各所述第二按摩轴能够围绕自身轴线转动;以及
偏压组件,设置在所述中心支架上,用于支撑所述第一按摩轴,使所述第一按摩轴受力处于浮动状态,
其中,所述中心支架在转动时驱动所述第一按摩轴和第二按摩轴同步转动。
2.根据权利要求1所述的足用浮动按摩组件,其特征在于,所述中心支架的轴向两端分别设有支撑端盘,其中所述支撑端盘上对应第一按摩轴设有浮动开口槽、对应所述第二按摩轴设置有固定开口槽。
3.根据权利要求2所述的足用浮动按摩组件,其特征在于,还包括与中心支架的端部固定连接的驱动齿轮,其中,所述驱动齿轮的轮盘部分设有凹腔,所述支撑端盘容置于所述凹腔中。
4.根据权利要求2所述的足用浮动按摩组件,其特征在于,所述偏压组件包括用于支撑所述第一按摩轴的浮动托架和向所述浮动托架偏压的弹性件。
5.根据权利要求2所述的足用浮动按摩组件,其特征在于,所述支撑端盘上设有为所述浮动托架的浮动提供导向的导向配合结构。
6.根据权利要求2所述的足用浮动按摩组件,其特征在于,所述浮动托架上设置有至少一个凹形托部,各所述凹形托部用于托起一个第一按摩轴的轴端。
7.一种足浴器,包括足浴腔体和电动装置,其特征在于,还包括在所述足浴腔体的底壁上设置的根据权利要求1至6中任一项所述的足用浮动按摩组件。
8.根据权利要求7所述的足浴器,其特征在于,还包括在所述足浴腔体的底壁上设置的足用指压按摩组件,所述足用指压按摩组件主要由曲轴、与所述曲轴的各偏心轴颈配合的多个指压按摩头、以及在所述曲轴上覆盖延伸的护盖组成,其中,所述曲轴与所述电动装置驱动连接。
9.根据权利要求8所述的足浴器,其特征在于,还包括在所述曲轴上设置的第一齿轮、在所述中心支架上设置的与所述第一齿轮啮合传动并且能够互换使用的第二齿轮、以及固定连接在所述足浴腔体的底壁并且在所述第一齿轮和第二齿轮外覆盖延伸的盖板。
10.根据权利要求9所述的足浴器,其特征在于,所述护盖的与第一齿轮相对的端部和中心支架的与第二齿轮相对的端部分别设有外形相同的定位支撑座,其中,所述足用指压按摩组件和所述足用浮动按摩组件在所述足浴腔体的底壁的安装位置能够调换。
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