[实用新型]平行曝光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及生产设备技术领域，具体涉及一种平行曝光机。

背景技术

一般印刷电路板或半导体芯片在进行曝光显影制程时，先在被加工物表面上涂上一层光阻，再藉由光源的照射将原稿上的电路布线图案映像至被加工物表面的光阻层上，以使光阻层的化学性质因光源的照射而产生变化，然后再利用去光阻剂来将被光源照射过的光阻或未经曝光的光阻自被加工物表面去除，以形成对应于原稿的线路布局，这种设备称为曝光机。

以前的爆光机采用卤素灯作为热光源，功率大约20KW，发热量大，所以需要另外加设冷却机构对整个曝光机进行散热，加大了整个装置的体积，并且增大了制造成本，不宜进行推广。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型公开一种平行曝光机，能够解决现有技术的不足。

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：

一种平行曝光机，包括机箱、底座、活动挡板和组合滑道，所述机箱设置在底座上端，所述活动挡板设置在底座前表面，所述组合滑道设置在底座上端；所述底座底部具有工作腔和备用腔，前端具有竖直滑槽，所述竖直滑槽顶部具有定位凹槽；所述活动挡板设置在竖直滑槽内，两侧均设置有弹簧和顶板，所述顶板通过弹簧与活动挡板连接；所述组合滑道包括第一滑道和第二滑道，所述第一滑道与第二滑道垂直设置，所述第一滑道沿底座前后方向设置，所述第二滑道沿底座左右方向设置，所述第二滑道一端设置在底座外侧。

优选的，所述机箱上端前表面设置有操作面板，所述操作面板包括显示屏和控制旋钮。

优选的，所述活动挡板前表面还设置有把手。

优选的，所述组合滑道上设置有滑动板，所述滑动板长和宽均为组合滑道长和宽的一半。

优选的，所述组合滑道至少设置有三个。

本实用新型公开一种平行曝光机，结构简单，使用方便，能够快速定位，能够高效加工处理。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例的主视结构示意图；

图2是本实用新型实施例的侧视结构示意图。

图中1、机箱，2、底座，3、活动挡板，4、组合滑道，5、滑动板，201、工作腔，202、备用腔，203、竖直滑槽，204、定位凹槽，301、弹簧，302、顶板，401、第一滑道，402、第二滑道。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1至图2所示，本实用新型实施例所述一种平行曝光机，包括机箱、底座、活动挡板和组合滑道，所述机箱设置在底座上端，所述活动挡板设置在底座前表面，所述组合滑道设置在底座上端；所述底座底部具有工作腔和备用腔，前端具有竖直滑槽，所述竖直滑槽顶部具有定位凹槽；所述活动挡板设置在竖直滑槽内，两侧均设置有弹簧和顶板，所述顶板通过弹簧与活动挡板连接；所述组合滑道包括第一滑道和第二滑道，所述第一滑道与第二滑道垂直设置，所述第一滑道沿底座前后方向设置，所述第二滑道沿底座左右方向设置，所述第二滑道一端设置在底座外侧。

所述机箱上端前表面设置有操作面板，所述操作面板包括显示屏和控制旋钮。所述活动挡板前表面还设置有把手。所述组合滑道上设置有滑动板，所述滑动板长和宽均为组合滑道长和宽的一半。所述组合滑道至少设置有三个。

综上所述本实用新型公开一种平行曝光机，结构简单，使用方便，能够快速定位，能够高效加工处理。