[实用新型]一种隔磁片冲击试验测试装置

权利要求书

1.一种隔磁片冲击试验测试装置，其特征在于，包括：

试验部分，其包括：

钢质框架；

衔铁，其通过衔铁高度调节装置安装于所述钢质框架上，所述衔铁高度调节装置用于调节所述衔铁在所述钢质框架上的高度；

电磁铁，所述电磁铁安装与所述钢质框架上，并位于所述衔铁的上方；

力传感器，其设置在所述钢质框架的底座上，并位于所述衔铁的下方；及

隔磁片定位装置，其设置于所述力传感器上，并位于所述力传感器和所述衔铁之间，用于限制隔磁片在水平与竖直方向的位移；

及测试部分，其经配置以测试隔磁片受所述衔铁冲击过程的力学响应。

2.如权利要求1所述的隔磁片冲击试验测试装置，其特征在于，所述试验部分还包括导轨，所述导轨的下端与所述钢质框架的底座连接，上端依次穿过所述衔铁及所述钢质框架的顶部，所述衔铁高度调节装置通过所述导轨上穿过所述钢质框架的顶部的部分进行安装，所述衔铁在所述衔铁高度调节装置的作用下沿所述导轨升降。

3.如权利要求2所述的隔磁片冲击试验测试装置，其特征在于，所述电磁铁通过所述导轨上位于所述衔铁和所述钢质框架的顶部之间的部分安装。

4.如权利要求2所述的隔磁片冲击试验测试装置，其特征在于，所述导轨的个数为两个，所述两个导轨分别位于所述隔磁片定位装置的两侧。

5.如权利要求1所述的隔磁片冲击试验测试装置，其特征在于，所述衔铁高度调节装置包括带手柄的螺杆，所述带手柄的螺杆与所述钢质框架的顶部螺纹旋接，其下端与所述电磁铁连接。

6.如权利要求1所述的隔磁片冲击试验测试装置，其特征在于，所述隔磁片定位装置包括弹簧稳定器、弹簧稳定器固定装置、隔磁片基座和水槽基座；所述水槽基座为向上开口的介质容器，所述开口其内依次向上叠置所述隔磁片基座、隔磁片、所述弹簧稳定器和所述弹簧稳定器固定装置。

7.如权利要求6所述的隔磁片冲击试验测试装置，其特征在于，所述测试部分包括：加速度传感器、冲击载荷数据采集与分析仪、应变片、动态应变测试分析系统、高速相机和高速摄影及衔铁撞击速度测量系统。

8.如权利要求7所述的隔磁片冲击试验测试装置，其特征在于，所述加速度传感器对称布置在所述衔铁的底面上。

9.如权利要求7所述的隔磁片冲击试验测试装置，其特征在于，所述应变片共有8片，沿所述水槽基座周向和垂直方向粘贴。

10.如权利要求7所述的隔磁片冲击试验测试装置，其特征在于，所述高速相机为两台，分别对着所述衔铁的前表面和后表面。