[实用新型]一种带有小分子团负氧离子的化妆品面膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及面膜技术领域，具体为一种带有小分子团负氧离子的化妆品面膜。

背景技术

面膜的种类按照质地来分，可以分为面贴布型面膜、撕拉型面膜、调合膏状膜、乳霜型面膜、鲜果自制面膜等五大种。其中面贴布型面膜的运用最为广泛，是这五大种面膜中最方便，贴上、揭下最简便的一种。且现代社会的女性工作及生活压力大，再加上环境污染严重，对皮肤造成比较大的伤害，另一方面，一般女性都认为，无论在工作还是在生活中，拥有好的皮肤可以让自己表现得更有自信。因此，对皮肤的保养对都市女性而言是十分重要的，很多女性都会选择用面膜对脸部进行保水护肤，虽然需要花费较多时间，但是相对于化妆品以及护肤品，面膜的护肤效果更加持久有效，但现有的面膜贴合不紧，且敷在脸上后，人走动的时候容易掉落，而且功能性不是很强。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种带有小分子团负氧离子的化妆品面膜，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种带有小分子团负氧离子的化妆品面膜，包括面膜主体、小分子团负氧离子层和滋养护肤层，所述面膜主体上部设置有露眼孔，且露眼孔共设置有两个，露眼孔对称分布在面膜主体上，所述面膜主体中部设置有弧形孔，所述面膜主体下部设置有露嘴孔，所述面膜主体由湿纸巾层、透气层、小分子团负氧离子层、滋养护肤层、消炎层和植物纤维层组成，且湿纸巾层下表面设置有透气层，透气层下表面设置有小分子团负氧离子层，小分子团负氧离子层下表面设置有滋养护肤层，滋养护肤层下表面设置有消炎层，消炎层下表面设置有植物纤维层。

优选的，所述面膜主体两侧安装有耳挂。

优选的，所述面膜主体上设置有条形缺口，且条形缺口共设置有六个，且均匀分布在面膜主体两侧。

优选的，所述弧形孔的形状为鼻翼型。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型通过设置小分子团负氧离子层，小分子团负氧离子能够延缓皮肤衰老，除霾抑菌，解决皮肤问题，有利于身心健康，对人的神经系统及血液循环，对人的机体生理活动产生影响，通过设置植物纤维层，可避免化工纤维对人体皮肤造成伤害，植物纤维更加温和，且利于皮肤吸收面膜里的养分，通过设置滋养护肤层，可对皮肤起到滋养的作用，通过设置透气层，使其透气性好，便于皮肤呼吸，通过设置消炎层，可对皮肤进行消炎，通过设置挂耳和条形缺口，可使面膜主体紧贴脸部，且不会掉落。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的剖面结构示意图；

图中：1-面膜主体；2-挂耳；3-条形缺口；4-露眼孔；5-弧形孔；6-露嘴孔；7-湿纸巾层；8-透气层；9-小分子团负氧离子层；10-滋养护肤层；11-消炎层；12-植物纤维层。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-2，本实用新型提供的一种实施例：一种带有小分子团负氧离子的化妆品面膜，包括面膜主体1、小分子团负氧离子层9和滋养护肤层10，面膜主体1上部设置有露眼孔4，且露眼孔4共设置有两个，露眼孔4对称分布在面膜主体1上，面膜主体1中部设置有弧形孔5，面膜主体1下部设置有露嘴孔4，面膜主体1由湿纸巾层7、透气层8、小分子团负氧离子层9、滋养护肤层10、消炎层11和植物纤维层12组成，且湿纸巾层7下表面设置有透气层8，透气层8下表面设置有小分子团负氧离子层9，小分子团负氧离子层9下表面设置有滋养护肤层10，滋养护肤层10下表面设置有消炎层11，消炎层11下表面设置有植物纤维层12，面膜主体1两侧安装有耳挂2，面膜主体1上设置有条形缺口3，且条形缺口3共设置有六个，且均匀分布在面膜主体1两侧，弧形孔5的形状为鼻翼型。

具体使用方式：本实用新型工作中，将露眼孔4对准眼部，将露嘴孔6对准嘴部，将挂耳2挂在耳朵上，通过小分子团负氧离子层9，负氧离子能够延缓皮肤衰老，除霾抑菌，解决皮肤问题，有利于人体的身心健康，对人的神经系统及血液循环，对人的机体生理活动产生影响，通过植物纤维层12可避免化工纤维对人体皮肤照成伤害，植物纤维更加温和，且利于皮肤吸收面膜里的养分，通过滋养护肤层10可对皮肤起到滋养的作用，通过设置透气层，使其透气性好，便于皮肤呼吸，通过消炎层11可对皮肤进行消炎。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。