[实用新型]紫外GaN基LED外延结构有效
申请号: | 201620155376.4 | 申请日: | 2016-03-01 |
公开(公告)号: | CN205385037U | 公开(公告)日: | 2016-07-13 |
发明(设计)人: | 冯猛;陈立人;刘恒山 | 申请(专利权)人: | 聚灿光电科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/04 | 分类号: | H01L33/04 |
代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 杨林洁 |
地址: | 215123 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 紫外 gan led 外延 结构 | ||
1.一种紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述LED外延结构依次包括:
衬底;
位于所述衬底上的低温缓冲层;
位于所述低温缓冲层上的高温u-GaN层;
位于所述高温u-GaN层上的高温n-GaN层;
位于所述高温n-GaN层上的低温AlGaN/GaN超晶格层,所述低温AlGaN/GaN超晶格层包括层叠设置的低温AlGaN层和低温GaN层;
位于所述低温AlGaN/GaN超晶格层上的低温InGaN/AlGaN紫外发光层,所述低温InGaN/AlGaN紫外发光层包括层叠设置的低温InGaN量子阱层和低温AlGaN量子垒层,所述低温InGaN/AlGaN紫外发光层的发光波长为365~390nm;
位于所述低温InGaN/AlGaN紫外发光层上的高温p-AlGaN电子阻挡层;
位于所述高温p-AlGaN电子阻挡层上的高温p-GaN层。
2.根据权利要求1所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温AlGaN/GaN超晶格层包括3~15个周期层叠设置的低温AlGaN层和低温GaN层。
3.根据权利要求2所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温AlGaN/GaN超晶格层中,每层低温AlGaN层的厚度为1~5nm,每层低温GaN层的厚度为1~5nm。
4.根据权利要求1所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温AlGaN/GaN超晶格层中低温AlGaN层的Al组分为0.01~0.05。
5.根据权利要求1所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温InGaN/AlGaN紫外发光层包括6~10个周期层叠设置的低温InGaN量子阱层和低温AlGaN量子垒层。
6.根据权利要求5所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温InGaN/AlGaN紫外发光层中,每层低温InGaN量子阱层的厚度为2~4nm,每层低温AlGaN量子垒层的厚度为6~12nm。
7.根据权利要求1所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温InGaN/AlGaN紫外发光层中低温AlGaN量子垒层的Al组分为0.05~0.25。
8.根据权利要求1所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温InGaN/AlGaN紫外发光层中低温InGaN量子阱层的In组分为0~0.09。
9.根据权利要求1所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温缓冲层为低温GaN层或低温AlGaN层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于聚灿光电科技股份有限公司,未经聚灿光电科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201620155376.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:AlGaInP系发光二极管
- 下一篇:一种太阳能电源