[实用新型]紫外GaN基LED外延结构有效

专利信息
申请号: 201620155376.4 申请日: 2016-03-01
公开(公告)号: CN205385037U 公开(公告)日: 2016-07-13
发明(设计)人: 冯猛;陈立人;刘恒山 申请(专利权)人: 聚灿光电科技股份有限公司
主分类号: H01L33/04 分类号: H01L33/04
代理公司: 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 代理人: 杨林洁
地址: 215123 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 紫外 gan led 外延 结构
【权利要求书】:

1.一种紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述LED外延结构依次包括:

衬底;

位于所述衬底上的低温缓冲层;

位于所述低温缓冲层上的高温u-GaN层;

位于所述高温u-GaN层上的高温n-GaN层;

位于所述高温n-GaN层上的低温AlGaN/GaN超晶格层,所述低温AlGaN/GaN超晶格层包括层叠设置的低温AlGaN层和低温GaN层;

位于所述低温AlGaN/GaN超晶格层上的低温InGaN/AlGaN紫外发光层,所述低温InGaN/AlGaN紫外发光层包括层叠设置的低温InGaN量子阱层和低温AlGaN量子垒层,所述低温InGaN/AlGaN紫外发光层的发光波长为365~390nm;

位于所述低温InGaN/AlGaN紫外发光层上的高温p-AlGaN电子阻挡层;

位于所述高温p-AlGaN电子阻挡层上的高温p-GaN层。

2.根据权利要求1所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温AlGaN/GaN超晶格层包括3~15个周期层叠设置的低温AlGaN层和低温GaN层。

3.根据权利要求2所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温AlGaN/GaN超晶格层中,每层低温AlGaN层的厚度为1~5nm,每层低温GaN层的厚度为1~5nm。

4.根据权利要求1所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温AlGaN/GaN超晶格层中低温AlGaN层的Al组分为0.01~0.05。

5.根据权利要求1所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温InGaN/AlGaN紫外发光层包括6~10个周期层叠设置的低温InGaN量子阱层和低温AlGaN量子垒层。

6.根据权利要求5所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温InGaN/AlGaN紫外发光层中,每层低温InGaN量子阱层的厚度为2~4nm,每层低温AlGaN量子垒层的厚度为6~12nm。

7.根据权利要求1所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温InGaN/AlGaN紫外发光层中低温AlGaN量子垒层的Al组分为0.05~0.25。

8.根据权利要求1所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温InGaN/AlGaN紫外发光层中低温InGaN量子阱层的In组分为0~0.09。

9.根据权利要求1所述的紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述低温缓冲层为低温GaN层或低温AlGaN层。

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