[实用新型]X射线成像系统有效

专利信息
申请号: 201620099373.3 申请日: 2016-02-01
公开(公告)号: CN205352972U 公开(公告)日: 2016-06-29
发明(设计)人: 刘利锋 申请(专利权)人: 刘利锋
主分类号: G01N23/20 分类号: G01N23/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 037009 山*** 国省代码: 山西;14
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摘要:
搜索关键词: 射线 成像 系统
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种成像系统,特别是涉及一种基于ICF装置的球面型曲面晶体X射线成像系统。

背景技术

在ICF实验研究中,晶体谱仪被用于激光等离子体X射线光谱诊断,根据获得的等离子体X射线光谱信息,可以得到等离子体中电子温度、密度、电离分布、电流和电磁场的时空分布,以及输运、波动和不稳定性等状态参数,真实地了解高温等离子体的内部状态及变化过程。现有的晶体谱仪设备中各部件均是固定安装,无法自由的调节部件位置,对实验设备的安装、维修和实验过程均有较大的影响。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种X射线成像系统,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供一种X射线成像系统,包括:

密封盒体,所述密封盒体由顶部开口的铅盒和用于密封所述铅盒的铅玻璃盖板组成;

阻光板,所述阻光板设置在所述铅盒内,所述铅盒沿长度方向被所述阻光板分隔成光源室和成像室,所述阻光板上设置有透光区,所述阻光板朝向光源室的一侧还设置有用于阻挡所述透光区的遮光板,所述遮光板可沿所述铅盒宽度方向来回移动,所述遮光板上设置有至少一个狭缝;

X射线源,所述X射线源设置在所述光源室内并可沿所述铅盒宽度方向来回移动,用于将X射线依次穿过所述狭缝和所述透光区后传输到成像室;

曲面晶体,所述曲面晶体设置在所述成像室内并可沿所述铅盒的长度方向和宽度方向来回移动,用于接收X射线源传输的X射线并聚焦到铅盒内的罗兰圆轨迹上;

成像接收装置,所述成像接收装置设置在所述成像室内并可沿所述铅盒的长度方向来回移动,用于接收曲面晶体衍射后的X射线。

上述技术方案中,所述成像室内设置有沿铅盒宽度方向布置的试样轨道,所述试样轨道设置在所述曲面晶体与所述阻光板之间,所述试样轨道上设置有第一滑块,所述第一滑块上设置有试样座,所述试样轨道一侧设置有用于驱动第一滑块沿所述试样轨道滑动的第一电机。

上述技术方案中,所述阻光板上靠近光源室的一侧设置有沿铅盒宽度方向布置的遮光轨道,所述遮光轨道上设置有第二滑块,所述第二滑块与所述遮光板固定连接,所述遮光轨道一侧设置有用于驱动第二滑块沿所述遮光轨道滑动的第二电机。

上述技术方案中,所述光源室内设置有沿铅盒宽度方向布置的光源轨道,所述光源轨道上设置有第三滑块,所述第三滑块上设置有所述X射线源,所述光源轨道一侧设置有用于驱动第三滑块沿所述光源轨道滑动的第三电机。

上述技术方案中,所述成像室内设置有沿铅盒长度方向布置的纵向聚焦轨道,所述纵向聚焦轨道上设置有第四滑块,所述第四滑块上固定连接有沿铅盒宽度方向布置的横向聚焦轨道,所述横向聚焦轨道上设置有第五滑块,所述第五滑块上设置有曲面晶体,所述纵向聚焦轨道一侧设置有用于驱动第四滑块沿所述纵向聚焦轨道滑动的第四电机,所述横向聚焦轨道一侧设置有用于驱动第五滑块沿所述横向聚焦轨道滑动的第五电机。

上述技术方案中,所述成像室内设置有沿铅盒长度方向布置的成像轨道,所述成像轨道上设置有第六滑块,所述第六滑块上设置有所述成像接收装置,所述成像轨道一侧设置有用于驱动第六滑块沿所述成像轨道滑动的第六电机。

上述技术方案中,所述成像室内分别设置有第一刻度尺和第二刻度尺,所述第一刻度尺沿所述铅盒的长度方向布置,所述第二刻度尺沿所述铅盒的宽度方向布置。

上述技术方案中,所述曲面晶体为球面型曲面晶体。

上述技术方案中,所述成像接收装置为X射线胶片、成像板或CCD传感器。

本实用新型中的X射线成像系统,通过设置多条轨道,将X射线光源,狭缝、曲面晶体和成像接收装置分别设置在轨道上的滑块上,从而自由的调节他们的相对位置,得到最佳的成像角度,克服了传统的X射线成像系统中部件固定后成像效果不佳时难以调整的情况,同时通过设置在成像室内的两个刻度尺,能够方便使用者直观的控制各装置部件之间的位置,方便使用者计算出最佳布置方位并进行调整。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;

具体实施方式的附图标号说明:

1、铅盒;101、光源室;102、成像室;2、真空抽气管;

3、阻光板;301、透光区;302、遮光板;303、狭缝;

31、遮光轨道;32、第二滑块;33、第二电机;

4、X射线源;41、光源轨道;42、第三滑块;

43、第三电机;5、曲面晶体;51、纵向聚焦轨道;

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