[实用新型]一种连续紫外辐照装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种连续紫外辐照处理装置。

背景技术

为了提高高分子膜的亲水性，经常需要对高分子膜进行紫外辐照处理，目 前，常用的紫外辐照处理装置无法对高分子膜进行连续的紫外辐照处理，辐照 的强度不均匀，而且随着反应的进行，反应液的浓度也会发生改变，从而影响 了处理效果。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服以上不足，提供一种连续紫外辐照装置，能够 有效解决现有紫外辐照装置无法对高分子膜进行连续的紫外辐照处理，辐照强 度不均匀，以及反应液浓度随反应进行发生变化的问题。

为了解决上述问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的：一种连续紫 外辐照装置，包括反应系统和传送系统，所述的反应系统包括紫外灯管、反应 箱、反应液槽、检测器、浓度控制器、试剂添加器、辅助槽、泵、导管、进液 口和出液口，所述的传送系统包括传送辊、牵引辊和收卷辊，通过传送系统实 现对高分子膜进行连续的紫外辐照处理，通过调节收卷辊的速度可以控制高分 子膜的紫外辐照时间，所述的紫外灯管设置于反应箱内上顶部，紫外灯管的长 度大于被辐照物的幅宽，与被辐照物的传送方向垂直，使辐照强度均匀，实现 对高分子膜进行均匀紫外辐照处理，所述的检测器设置于反应液槽的内部，所 述的浓度控制器能够设定反应液槽内反应液的浓度，通过检测器即时检测反应 液的浓度，并通过试剂添加器向辅助槽中添加试剂，导管将辅助槽、进液口、 出液口和泵相连，以保证随着反应进行，反应液浓度稳定，不发生变化。

与现有技术相比，本实用新型的优点是：结构简单，设计合理，经济实用， 可以实现对高分子膜进行连续的紫外辐照处理，且辐照强度均匀，反应液浓度 稳定，处理效果好。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

参阅图1为本实用新型一种连续紫外辐照装置的实施例，一种连续紫外辐 照装置，包括反应系统和传送系统，所述的反应系统包括紫外灯管1、反应箱2、 反应液槽3、检测器4、浓度控制器5、试剂添加器6、辅助槽7、泵8、导管9， 进液口10和出液口11，所述的传送系统包括传送辊12、牵引辊13和收卷辊14， 通过传送系统实现对高分子膜进行连续的紫外辐照处理，通过调节收卷辊14的 速度可以控制高分子膜的紫外辐照时间，所述的紫外灯管1设置于反应箱2内 上顶部，紫外灯管1的长度大于被辐照物的幅宽，与被辐照物的传送方向垂直， 使辐照强度均匀，实现对高分子膜进行均匀紫外辐照处理，所述的检测器4设 置于反应液槽3的内部，所述的浓度控制器5能够设定反应液槽3内反应液的 浓度，通过检测器4即时检测反应液的浓度，并通过试剂添加器6向辅助槽7 中添加试剂，导管9将辅助槽7、进液口10、出液口11和泵8相连，以保证随 着反应进行，反应液浓度稳定，不发生变化。

以上所述仅为本实用新型的具体实施例，但本实用新型并不局限于以上描 述的具体实施例。任何本领域的技术人员在本实用新型的领域内，所作的变化 或修饰皆涵盖在本实用新型的专利范围之中。