[实用新型]一种陶瓷制电热薰香座有效

专利信息
申请号: 201620044907.2 申请日: 2016-01-18
公开(公告)号: CN205235008U 公开(公告)日: 2016-05-18
发明(设计)人: 陈文耀;陈斯练;林月桂 申请(专利权)人: 福建省德化县腾兴陶瓷有限公司
主分类号: A61L9/03 分类号: A61L9/03
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 代理人: 张永
地址: 362500 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 陶瓷 电热 薰香
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种薰香台,尤其涉及一种用于蜡块加热的陶瓷制电热薰香座。

背景技术

目前,随着人们生活质量的提高,对于居室环境的要求也越来越高,通常使用香精来改善居室环境,电热香薰台被广泛使用,在盛蜡座的底板下部设有电阻丝通过加热电阻丝热熔蜡块,该种加热方法电阻丝温度不断急剧升高,高温容易产生香蜡过度挥发,在极端情况下甚至会产生自然火焰,存在安全隐患。

为解决上述问题,授权公告号CN2766847Y公开了一种电热薰香台,其包括台体、置于台体上盛蜡座底板,其特征在于:在盛蜡座底板的底部设置一恒温发热元件。现有的的电热薰香台在长期使用下受温度影响致使恒温发热元件松动、脱落使用寿命短且散热性不高。

实用新型内容

为克服现有技术中的不足,本实用新型提供一种恒温发热元件连接稳定、牢固,散热性能良好的陶瓷制电热薰香座。

为实现上述目的,本实用新型采用的技术方法如下:

一种陶瓷制电热薰香座,包括座体、从座体内引出的带有插头的电源线、设于座体端面的蜡台和设于座体内部置于蜡台底面的恒温发热元件,所述的座体为中空腔体,所述的恒温发热元件设有电源引线,该电源引线与带有插头的电源线连接,其特征在于:还包括支撑机构,所述的支撑机构设于中空腔体内,该支撑机构包括固定片和置于固定片上的多个卡爪,卡爪与座体内壁相抵将固定片支撑于恒温发热元件底面。

进一步的,所述的座体底部设有开口,开口边缘设有限位台阶。

进一步的,所述的电热薰香座还包括与限位台阶相嵌合的底板,底板上开有若干个散热孔,中部开有定位孔,该底板上设有容置电线的腔座。

进一步的,所述的座体内还包括底板安装组件,所述的底板安装组件由挡片和螺丝构成,该挡片上设有与底板定位孔相配合的通孔,挡片与座体开口内壁相抵触,底板通过螺丝与挡片连接固定。

进一步的,所述的座体设有与容置电线的腔座相配合的出线槽。

进一步的,所述的座体还包括与蜡台相适配的上盖,所述的上盖径向凸起,该凸起开有供香气散发的出气孔。

进一步的,所述的座体外壁设有与电源插头相连接的开关按钮,所述的开关按钮上设有电源指示灯。

进一步的,所述的蜡台底面设有导热涂层。

进一步的,所述的恒温发热元件通过耐温胶固定于蜡台底面。

进一步的,所述的支撑机构通过耐温胶与恒温发热元件粘附为一体。

由上述对本实用新型的描述可知,与现有技术相比,本实用新型的一种陶瓷制电热薰香座,支撑机构防止由于高温长期作用下的恒温发热元件的脱落,结构简单,造型美观,散热性良好,使用寿命长。

附图说明

图1为本实用新型的主视图;

图2为本实用新型的俯视图;

图3为本实用新型的爆炸图。

具体实施方式

以下通过具体实施方式对本实用新型作进一步的描述。

参照图1至图3所示,一种陶瓷制电热薰香座,包括座体1、电源线2、上盖3、恒温发热元件4、支撑机构5、底板6、底板安装组件7;座体1为圆柱中空腔体,端面设有蜡台11、外壁设有开关按钮12、底部设有开口13和出线槽14,该蜡台11底面设有导热涂层,开关按钮12上带有电源指示灯,开口13边缘设有限位台阶;

电源线2连接开关按钮12由座体内引出且带插头;

上盖3与蜡台11相适配,该上盖3径向凸起,凸起上开有供香气散发的出气孔31;

恒温发热元件4通过耐温胶固定于蜡台11底面,所述的恒温发热元件4设有电源引线,该电源引线与带有插头的电源线2连接;

支撑机构5设于中空腔体内,通过耐温胶与恒温发热元件4粘附为一体,支撑机构5包括固定片51和置于固定片上的卡爪52,卡爪52与座体1内壁相抵将固定片51支撑于恒温发热元件4底面;

底板6与座体1底部限位台阶相嵌合,底板6上设有容置电线的腔座61,该腔座61与座体1底部出线槽相配合,底板6上开有若干个散热孔,中部开有定位孔62;

底板安装组件7包括挡片71和螺丝72,该挡片71上设有与底板6定位孔62相配合的通孔711,挡片71与座体1开口内壁相抵触,底板6通过螺丝72与挡片71连接固定。

参照图1、图2所示,本实用新型的一种陶瓷制电热薰香座,支撑机构5防止由于高温长期作用下的恒温发热元件的脱落,结构简单,造型美观,散热性良好,使用寿命长。

上述仅为本实用新型的若干具体实施方式,但本实用新型的设计构思并不局限于此,凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动,均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。

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