[实用新型]一种复合薄膜材料有效
申请号: | 201620040348.8 | 申请日: | 2016-01-15 |
公开(公告)号: | CN205378468U | 公开(公告)日: | 2016-07-06 |
发明(设计)人: | 佘自力;金烈;梁锐生 | 申请(专利权)人: | 深圳市金凯新瑞光电股份有限公司 |
主分类号: | H05K7/20 | 分类号: | H05K7/20;H05K9/00;B32B15/04;B32B15/06;B32B15/20 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 刘莉 |
地址: | 518106 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 复合 薄膜 材料 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种复合薄膜材料。
背景技术
现有的很多电子元器件如芯片、集成电路板、OLED显示器、LCD背光模组、CPU模组、放大器模组,等等,在工作时会产生热量,同时,也会产生电磁波干扰(包括干扰他件或被他件干扰)。通常,传统方法是在以上元器件上覆盖金属箔,对其进行电磁屏蔽,然后再在该金属箔上覆盖石墨,以收集、导匀、储存元器件产生的热量,然后,再在该石墨上粘合金属散热器件,以将热量散发出去。整个制程复杂、成本高,并且,对于电子产品整机而言,其作为附属功能件,占用的空间太大,严重影响电子产品的轻薄化。
实用新型内容
为了弥补上述现有技术的不足,本实用新型提出一种复合薄膜材料,
本实用新型的技术问题通过以下的技术方案予以解决:
一种复合薄膜材料,所述复合薄膜材料包括基膜,附着在所述基膜上的含Ni合金层,以及附着在所述含Ni合金层上的Cu层。
优选地,所述复合薄膜材料还包括附着在所述Cu层上的硅橡胶层。
优选地,所述基膜的厚度为0.05~0.25mm。
优选地,所述含Ni合金层的厚度为200nm~500nm。
优选地,所述复合薄膜材料由基膜,附着在所述基膜上的含Ni合金层,以及附着在所述含Ni合金层上的Cu层组成,且所述Cu层的厚度为6000nm~10000nm。
优选地,所述Cu层的厚度为100nm~400nm,所述硅橡胶层的厚度为0.1mm~0.4mm。
优选地,所述含Ni合金层中的含Ni合金为Ni/Cr合金或Ni/Cu合金或Ni/Cu/Ti合金。
优选地,所述基膜为PET膜或PC膜或两者的复合。
本实用新型与现有技术对比的有益效果包括:本实用新型通过多层具有不同功能的功能层复合形成复合薄膜材料,其中,含Ni合金层具有反射作用同时具有预定的电磁屏蔽性能,Cu层具有导热和屏蔽作用,该复合薄膜材料集合了反射、电磁屏蔽、散热等特性,例如,在将复合薄膜材料应用到发热器件中时,该Ni合金层和基膜一起朝外,具有对光的反射小的作用,复合薄膜材料能快速从发热器件吸收热量并散发到环境中。
附图说明
图1是本实用新型实施例一中的复合薄膜材料的结构示意图;
图2是本实用新型实施例二中的复合薄膜材料的结构示意图。
具体实施方式
下面对照附图并结合优选的实施方式对本实用新型作进一步说明。
本实用新型提供一种复合薄膜材料,在一种实施方式中,所述复合薄膜材料包括基膜,附着在所述基膜上的含Ni合金层,以及附着在所述含Ni合金层上的Cu层。
以下通过优选的实施例对本实用新型进行详细阐述。
实施例一
如图1所示,复合薄膜材料包括基膜11,附着在基膜11上的含Ni合金层12,以及附着在含Ni合金层12上的Cu层13,其中,基膜11的厚度为0.2mm,含Ni合金层12的厚度为300nm,Cu层13的厚度为8000nm。基膜可以采用光学级透明的PET膜,其耐温低于150℃。含Ni合金层中的含Ni合金为Ni/Cr合金,其中,Cr的质量含量为30%,余量为Ni,通过物理气相沉积工艺将Ni/Cr合金层附着在PET膜上,含Ni合金层与基膜的表面结合十分紧密,可以为其上的Cu层提供结构过渡和应力过渡,同时可以为后续即将制作的Cu层提供一个高附着力的链接面,使得Cu层也能紧密附着。Cu层通过电解液电镀形成并附着在含Ni合金层上,足够厚的Cu层提供高的导电性和导热性,是器件快速热传导的介质所在。将该实施例中的复合薄膜材料粘结在发热器件上,经测试,每1cm2的发热器件上对应的复合薄膜材料的储热为30-35mJ,而其散热能力大于35mJ,能满足35mW发热器件的负荷,通过复合薄膜的散热作用,可以将发热器件与环境的温差控制在10℃以内。通过电解液电镀的方式形成的Cu层十分致密,经测试,复合薄膜材料中Cu层13的电阻率为2.0×10-5~3.0×10-6Ω*cm,而普通湿法涂布的铜包覆材料的电阻率为1.0×10-3~1.0×10-4Ω*cm等级。同时,本实施例的复合薄膜材料的屏蔽效果优于同类应用的产品,其屏蔽性能达到30-60dB。
实施例二
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