[实用新型]一种新型玻片载板有效

专利信息
申请号: 201620034953.4 申请日: 2016-01-09
公开(公告)号: CN205318016U 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 黄公昌 申请(专利权)人: 黄公昌
主分类号: G02B21/34 分类号: G02B21/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266300 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 玻片载板
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种新型玻片载板。

背景技术

显微镜已是常用仪器之一,通过显微镜完成样品的检验,在现有技术中, 样品被摆放在玻片内,方便储存,因此在检验时,是通过对玻片的观察,显微 镜在观察时,玻片被摆放在载物台上,现有技术中的载物台并没有玻片的固定 位置,因此玻片是灵活的,在观察时,需要通过手指调节玻片位置,以便于显 微镜找准,但是该方式容易在玻片上留下指纹,影响观察。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种新型玻片载板,该装置可以有效 的承载玻片,在调节玻片位置时,只需要移动载板本体即可,同时通过擦拭棉 可以对玻片的上表面进行擦拭,便于显微镜的观察,避免误下检查结论。

为解决上述问题,本实用新型采用如下技术方案:

一种新型玻片载板,包括载板本体,所述载板本体顶部的靠近右端位置处 设置有玻片放置槽,所述载板本体的前、后端面上对称设置有滑槽,在两侧所 述滑槽之间配合有擦拭模块,所述擦拭模块的底部的两侧位置处设置有配合所 述滑槽的滑块,所述擦拭模块的底部设置有擦拭棉,所述载板本体的右端的底 部位置处设置有玻片取出孔,所述玻片取出孔贯穿所述玻片放置槽,所述载板 本体顶部的靠近左端位置处设置有施力槽。

优选地,所述载板本体的左端位置处圆弧过渡。

优选地,所述载板本体的顶部设置有第一限位颗粒和第二限位颗粒,所述 第一限位颗粒靠近所述施力槽,所述第二限位颗粒靠近所述载板本体的右端, 所述第一限位颗粒和所述第二限位颗粒与所述载板本体为一体式结构。

优选地,所述擦拭模块的顶部设置有施力块,所述施力块与所述擦拭模块 为一体式结构。

优选地,所述施力槽贯穿所述载板本体。

本实用新型的有益效果是:该装置可以有效的承载玻片,在调节玻片位置 时,只需要移动载板本体即可,同时通过擦拭棉可以对玻片的上表面进行擦拭, 便于显微镜的观察,避免误下检查结论,本装置的结构较为简单,成本较为低 廉,适合推广使用。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对 实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面 描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲, 在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的俯视图;

图2为擦拭模块的侧视图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的优选实施例进行详细阐述,以使本实用新型 的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围 做出更为清楚明确的界定。

参阅图1和图2所示的一种新型玻片载板,包括载板本体1,所述载板本体 1顶部的靠近右端位置处设置有玻片放置槽101,所述载板本体1的前、后端面 上对称设置有滑槽(未图示),在两侧所述滑槽之间配合有擦拭模块2,所述擦 拭模块2的底部的两侧位置处设置有配合所述滑槽的滑块201,所述擦拭模块2 的底部设置有擦拭棉202,所述载板本体1的右端的底部位置处设置有玻片取出 孔211,所述玻片取出孔211贯穿所述玻片放置槽101,所述载板本体1顶部的 靠近左端位置处设置有施力槽102。

本实用新型中一个较佳的实施例,所述载板本体1的左端位置处圆弧过渡。

本实用新型中一个较佳的实施例,所述载板本体1的顶部设置有第一限位 颗粒111和第二限位颗粒112,所述第一限位颗粒111靠近所述施力槽102,所 述第二限位颗粒112靠近所述载板本体1的右端,所述第一限位颗粒111和所 述第二限位颗粒112与所述载板本体1为一体式结构。

本实用新型中一个较佳的实施例,所述擦拭模块2的顶部设置有施力块222, 所述施力块222与所述擦拭模块2为一体式结构。

本实用新型中一个较佳的实施例,所述施力槽102贯穿所述载板本体1。

本实用新型的有益效果是:该装置可以有效的承载玻片,在调节玻片位置 时,只需要移动载板本体即可,同时通过擦拭棉可以对玻片的上表面进行擦拭, 便于显微镜的观察,避免误下检查结论,本装置的结构较为简单,成本较为低 廉,适合推广使用。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。 本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例 和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范 围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保 护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等 同物界定。

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