[实用新型]清洗设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，具体地，涉及一种清洗设备。

背景技术

在半导体及显示领域，生产薄膜晶体管等器件的过程中需要使 用大量的托盘进行周转，虽然产线中的洁净度很高，但长期使用之后， 托盘上还是会不可避免地粘附一些异物，这样会对一些工艺流程，例 如贴附偏光片的工艺，绑定(Bonding)工艺等，产生不良影响，导 致产品的良率降低，增加了物料损耗。

现有技术中，主要通过粘尘滚轮等对托盘以及托盘垫上异物较 多的区域进行清洗，但这样的清洗方式对异物的清洗不彻底，清洗效 果不佳；而且，采用这样方式对托盘和托盘垫进行清洗的效率较低， 粘尘滚轮的耗费量较大，导致清洗的成本较高。

发明内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出 了一种清洗设备，其具有更好的清洗效果，更高的清洗效率和更低的 清洗成本。

为实现本实用新型的目的而提供一种清洗设备，其包括传送机 构、清洁剂供给机构、水供给机构和毛刷盘结构；所述传送机构用于 将待清洗工件传送到清洗工艺位；所述清洁剂供给机构用于向清洗工 艺位提供清洁剂；所述水供给机构用于向清洗工艺位提供清洗用水； 所述毛刷盘结构用于与所述待清洗工件摩擦接触，对待清洗工件进行 清洗。

其中，待清洗工件包括托盘和托盘垫。

其中，所述传送机构包括传送带和驱动电机，所述驱动电机用 于驱动所述传送带转动。

其中，所述传送带上设置有多个凸起结构，所述凸起结构用于 防止放置在传送带上的待清洗工件与传送带之间产生相对滑动。

其中，所述清洁剂供给机构包括清洁剂喷管和清洁剂存储容器， 所述清洁剂喷管与清洁器存储容器连接，且其喷口朝向清洗工艺位。

其中，所述水供给机构包括水喷管和水源，所述水喷管与水源 连接，且其喷口朝向清洗工艺位。

其中，所述毛刷盘结构包括立柱、横臂、毛刷盘和驱动电机； 所述横臂安装在立柱上，所述毛刷盘和驱动电机安装在所述横臂上， 且所述驱动电机与毛刷盘通过联轴器连接，用于驱动毛刷盘转动或移 动。

其中，所述毛刷盘结构还包括滑块、紧固件和可旋转卡盘；所 述立柱具有沿竖直方向设置的滑轨，所述滑块沿所述滑轨在竖直方向 移动，所述紧固件用于将移动至指定位置的所述滑块固定在所述立柱 上；所述横臂通过可旋转卡盘与所述立柱连接。

其中，所述传送带的两侧均设置两个毛刷盘结构，且四个所述 毛刷盘结构沿所述传送带的传送方向交错设置。

其中，所述清洗设备还包括水回收机构，所述水回收机构包括 储水容器和集水管道，所述集水管道与储水容器连接，且其进水口位 于所述传送带的下方，以及，所述清洗工艺位位于所述集水管道的进 水口在所述清洗工艺位所在平面的投影内。

其中，所述清洗设备还包括压缩空气刀，所述压缩空气刀位于 所述清洗工艺位的后端，用于向清洗后的工件喷射压缩空气，以去除 工件上的水分。

本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型提供的清洗设备，其通过毛刷盘结构与托盘、托盘 垫等待清洗工件之间的摩擦，并使用清洁剂，且以水洗的方式对托盘、 托盘垫等待清洗工件进行清洗，与现有的通过粘尘滚轮进行清洗的方 式相比，其清洗效果更好，清洗效率更高，而且减少了粘尘滚轮等物 料的耗费，从而还可以降低成本。

附图说明

附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书 的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但并不 构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1为本实用新型实施方式提供的清洗设备的示意图；

图2为去除传送机构之后的清洗设备的示意图；

图3为毛刷盘结构的示意图；

图4为毛刷盘结构的分布方式的示意图。

其中，附图标记：

1：传送机构；2：清洁剂供给机构；3：水供给机构；4：毛刷 盘结构；5：压缩空气刀；

10：传送带；11：驱动电机；20：清洁剂喷管；30：水喷管； 40：立柱；41：横臂；42：毛刷盘；43：驱动电机；45：联轴器；46： 滑块；47：紧固件；48：可旋转卡盘；49：滑轨；60：集水管道。