[实用新型]一种硅片切割液回收用反应釜有效

专利信息
申请号: 201620006851.1 申请日: 2016-01-05
公开(公告)号: CN205379883U 公开(公告)日: 2016-07-13
发明(设计)人: 李朝辉;王军 申请(专利权)人: 江西忠智太阳能科技有限公司
主分类号: B01J19/18 分类号: B01J19/18
代理公司: 新余市渝星知识产权代理事务所(普通合伙) 36124 代理人: 廖平
地址: 338000 江西省新余市开*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 硅片 切割 回收 反应
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及硅片切割液回收用反应釜技术领域,尤其涉及一种硅片切割液回收用反应釜。

背景技术

在硅片切割液回收工艺的脱水工序中,使用的是一种搪瓷玻璃反应釜,需要通过反应釜对脱水液进行加热升温并在负压状态下实现脱水的目的。由于反应釜内的液体量较大,即使在搅拌状态下,由于蒸发面积比较小,脱水的效率也比较低,能耗也较高,并且大多的切割液回收反应釜的回收效率不是很高,对切割液的脱水后的水分的回收利用的不多,从而导致一定资源的流失。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种硅片切割液回收用反应釜。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种硅片切割液回收用反应釜,包括反应体和底座,所述底座位于反应体的下方,所述反应体上设有反应腔,所述反应体上设有与反应腔连通的进料通道,所述进料通道上螺纹连接有进料漏斗,所述反应腔中设有隔板,所述隔板的一侧倾斜设有两个挡板,两个挡板之间通过连接件设有过滤板,所述反应腔的内壁两侧对称设有水分吸收槽,所述水分吸收槽的底部设有与反应体外侧连通的回收通道,所述回收通道上设有水份回收箱,所述水份回收箱通过固定件安装于反应体的外侧,所述反应体的底部设有与反应腔连通的安装孔,所述安装孔内设有搅拌辊,所述搅拌辊穿过安装孔与驱动装置的驱动端连接,所述驱动装置通过固定装置安装于反应体的底部,所述反应体的下端一侧设有出料口,所述出料口上螺纹连接有出料漏斗。

优选地,所述底座的底面设有防滑纹。

优选地,所述搅拌辊上平行等距离排列有搅拌桨。

优选地,所述进料漏斗的一侧设有安装口,所述安装口内插设有限料挡板。

本实用新型中,使用者使用该装置时,可以将硅片切割液从进料漏斗内倒入,进而将限料挡板缓慢打开,进而使得硅片切割液可以进入反应腔中,进而进入反应腔中可以在加热装置的加热作用下,缓慢将水分可以分离出来,进而经过过滤板的过滤作用,可以将硅片切割液一定程度上过滤掉一些杂质,进而打开驱动装置,使得硅片切割液中的水分更加快速地被水分吸收槽吸收,进而通过回收通道可以将水分回收至水份回收箱中,进而通过出料漏斗将脱水和过滤作用下,使得硅片切割液的纯度可以变得较高,该装置操作简单,通过进料漏斗,水分回收槽,搅拌辊、驱动装置和出料漏斗的配合,使得整个装置可以从一定程度上将硅片切割液的回收效率增大,为使用者提供了一种高效且快速的硅片切割液回收釜装置。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种硅片切割液回收用反应釜的结构示意图。

图中:1反应体、2隔板、3过滤板、4搅拌辊、5水分回收箱、6出料漏斗、7底座、8驱动装置、9回收通道、10水分吸收槽、11进料漏斗、12进料漏斗、13限料挡板。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

参照图1,一种硅片切割液回收用反应釜,包括反应体1和底座7,底座7的底面设有防滑纹,使得底面7的接触摩擦力增大,底座7位于反应体1的下方,反应体1上设有反应腔,反应体1上设有与反应腔连通的进料通道14,进料通道14上螺纹连接有进料漏斗12,进料漏斗12的一侧设有安装口,安装口内插设有限料挡板13,反应腔中设有隔板2,隔板2的一侧倾斜设有两个挡板,两个挡板之间通过连接件设有过滤板3,反应腔的内壁两侧对称设有水分吸收槽10,水分吸收槽10的底部设有与反应体1外侧连通的回收通道9,回收通道9上设有水份回收箱5,水份回收箱5通过固定件安装于反应体1的外侧,反应体1的底部设有与反应腔连通的安装孔,安装孔内设有搅拌辊4,搅拌辊4上平行等距离排列有搅拌桨,搅拌辊4穿过安装孔与驱动装置8的驱动端连接,驱动装置8通过固定装置安装于反应体1的底部,反应体1的下端一侧设有出料口,出料口上螺纹连接有出料漏斗6。

本实用新型中使用者使用该装置时,可以将硅片切割液从进料漏斗12内倒入,进而将限料挡板13缓慢打开,进而使得硅片切割液可以进入反应腔中,进而进入反应腔中可以在加热装置的加热作用下,缓慢将水分可以分离出来,进而经过过滤板3的过滤作用,可以将硅片切割液一定程度上过滤掉一些杂质,进而打开驱动装置8,使得硅片切割液中的水分更加快速地被水分吸收槽10吸收,进而通过回收通道9可以将水分回收至水份回收箱5中,进而通过出料漏斗6将脱水和过滤作用下,使得硅片切割液的纯度可以变得较高。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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