[实用新型]一种辐射集中型电子扫描装置有效

专利信息
申请号: 201620005329.1 申请日: 2016-01-04
公开(公告)号: CN205318858U 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 伍德良;程刚 申请(专利权)人: 黄石众力辐照工程技术有限公司
主分类号: G21K5/04 分类号: G21K5/04
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 代理人: 张晓霞
地址: 435000 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 辐射 集中 电子扫描 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及电子加速器辐照加工设备,尤其是一种电子辐射集中的电子扫描装 置。

背景技术

电子加速器辐照加工是采用电离辐射对材料进行加工处理的一种工艺过程,是国家 民用核工业推广的一门新的生产工艺。其工艺过程有两大装备:电子加速器和束下传输 装置。

目前,在电子辐照过程中,无效的电子射程过大,偏离的辐照电子会对周围工装或 非当前被辐照物带来非预期辐射导致工装温度的升高或辐照不均。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是针对上述现有技术提供一种电子扫描装置,能够 将辐照过程中偏离的电子辐射遮挡掉,消除对周围工装或非当前被辐照物的辐照副作 用。

本实用新型解决上述问题所采用的技术方案为:一种辐照集中型电子扫描装置,包 括电子扫描窗口,其特征在于:靠近所述电子扫描窗口的辐射出口处设置有收集偏离电 子的遮挡罩,所述遮挡罩沿电子辐射方向向外延伸,且遮挡罩的外沿超出前述辐射出口 的外沿,该遮挡罩为导电型材。

优选地,所述遮挡罩为导电、导热优良的铜型材。

优选地,所述遮挡罩的相应端成型有连接边缘,遮挡罩通过所述连接边缘与电子扫 描窗口的外壁连接固定。

与现有技术相比,本实用新型的优点在于:为电子扫描窗口配置一遮挡罩,用于收 集偏离的辐射电子,使电子辐射更加集中,消除游散电子对周边工装或非当前被辐照物 的辐射副影响,确保电子扫描的均匀性。

附图说明

图1为本实用新型实施例中电子扫描装置的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图实施例对本实用新型作进一步详细描述。

如图1所示,本实施例中的辐照集中型电子扫描装置,包括电子扫描窗口1,靠近 所述电子扫描窗口1的辐射出口处设置有收集偏离电子的遮挡罩2,该遮挡罩2为导电、 导热优良的铜型材。遮挡罩2沿电子辐射方向向外延伸,且遮挡罩2的外沿超出前述辐 射出口的外沿。

遮挡罩2的相应端成型有连接边缘3,遮挡罩2通过连接边缘3与电子扫描窗口1 的外壁通过紧固件4连接固定。

为电子扫描窗口配置遮挡罩,用于收集偏离的辐射电子,能够使电子辐射束更集中, 提高电子扫描的均匀性。

除上述实施例外,本实用新型还包括有其他实施方式,凡采用等同变换或者等效替 换方式形成的技术方案,均应落入本实用新型权利要求的保护范围之内。

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