[发明专利]一种形成光学分光透镜的结构和方法有效
| 申请号： | 201611270736.6 | 申请日： | 2016-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN106597583B | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | 储佳 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;H01L27/146 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;陈慧弘 |
| 地址： | 201210 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 形成 光学 分光 透镜 结构 方法 | ||
1.一种形成光学分光透镜的方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤S01：提供一衬底，所述衬底为单晶硅，所述衬底的上表面晶相为<100>晶向或<111>晶向或<110>晶向；
步骤S02：在所述衬底上表面沉积一掩模层，并图案化，确定透镜的位置；
步骤S03：以图案化的掩模层为掩模，刻蚀掩模下方的衬底层，形成透镜形状的凹陷，当单晶硅衬底的上表面为<100>晶向时，所述透镜形状为四棱锥；当单晶硅衬底的上表面为<111>晶向时，所述透镜形状为三棱锥；单晶硅衬底的上表面为<110>晶向时，所述透镜形状为三菱柱；
步骤S04：在凹陷中沉积填充透镜材料，形成透镜材料层；
步骤S05：平坦化透镜材料层的上表面。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还可以包括步骤S07：从透镜材料层的上表面进行离子注入至衬底中，形成位于凹陷下方且与衬底层表面平行的离子注入层。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S03中，采用湿法工艺各向异性刻蚀形成所述透镜形状的凹陷。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述透镜材料层的材质为硅或二氧化硅或氮化硅或碳化硅。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述衬底层的材质为单晶硅；所述掩模层的材质为氮化硅。
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