[发明专利]光学效应结构

权利要求书

1.一种应用于物体表面的光学效应结构，所述光学效应结构包括多个散射结构，该多个散射结构被构造为大致垂直于物体的表面延伸的多个壁，所述多个壁按一种图形布置，从而基本防止反射光与物体的表面法线成30°或更大的角度离开物体表面。

2.根据权利要求1所述的光学效应结构，其特征在于，所述壁的横截面是矩形、三角形或梯形。

3.根据权利要求1或2所述的光学效应结构，其特征在于，所述壁形成六边形、任意多边形、或在非周期的空间相遇以形成非均匀空间的随机曲线。

4.根据权利要求1、2或3所述的光学效应结构，其特征在于，所述壁的高度为1000-5000nm，且其中所述壁优选设置为基本防止反射光以与表面法线呈20℃或更大的角度，优选10°或更大角度离开物体表面。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的光学效应结构，其特征在于，所述壁形成六边形，其中所述六边形的高度约为3000nm的，和/或

其中，所述六边形的边的长度为2000-7000nm，优选约为5000nm，和/或

其中，所述六边形包括垂直于物体表面延伸的多个板，其中所述板有规律地排列，所述板和壁的周期性元件间隔大于2000nm。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的光学效应结构，其特征在于，所述散射元件形成任意多边形，宽1000-3000nm，优选约2500nm，或其中，所述散射元件形成在非周期的空间相遇的随机曲线，以形成宽1000nm-3000nm的非均匀空间，优选约为2500nm。

7.一种光学涂层结构，该光学涂层结构应用于物体表面，以赋予物体亚光效果，所述光学涂层结构包括多个散射结构，该多个散射结构至少在高度和宽度尺寸上为亚微米级，并以非周期方式排列，

其中，所述光学涂层结构包括多层反射体，该多层反射体包括交替堆叠的较高折射率层和较低折射率层，和

其中，所述散射结构沉积在多层反射体的最上层。

8.根据权利要求7所述的光学涂层结构，其特征在于，所述散射结构是垂直于物体表面延伸的板。

9.根据权利要求8所述的光学涂层结构，其特征在于，所述板具有大致为矩形、三角形或梯形的横截面。

10.根据权利要求8或9所述的光学涂层结构，其特征在于，所述板的长度为500nm-1500nm，优选约1000nm，和/或

所述板的平均基部宽度为100nm-200nm，优选约140nm-160nm，更优选平均基部宽度约为150nm，和/或

所述板的高度约为1000nm-500nm，优选约700nm-600nm，更优选高度约为650nm。

11.根据权利要求8、9或10所述的光学涂层结构，其特征在于，所述板由折射率为1.6或更大的透明材料制成，和/或

其中，所述轮廓元件包括透明或黑色材料，该材料具有与所述多层反射体的相邻层至少相差0.5的折射率。

12.根据权利要求8-11中任意一项所述的光学涂层结构，其特征在于，所述光学涂层结构包括透明覆盖层，所述覆盖层优选具有的折射率至少比所述板的折射率高或低0.5。

13.根据权利要求7-12中任意一项所述的光学涂层结构，其特征在于，所述多层反射体包括优选选自以下各项的不同电介质材料的交替层：二氧化硅、二氧化钛、硫化锌、氟化镁和五氧化二钽。

14.根据前面任意一项权利要求所述的光学效应结构，其特征在于，所述散射结构利用印刷技术，优选纳米印刷，进行材料沉积来形成的，或通过压印形成。

15.根据前面任意一项权利要求所述的光学效应结构，其特征在于，所述光学效应结构与设置在物体表面的构造的宏观结构结合。