[发明专利]基于III-V族氮化物半导体的LED全彩显示器件结构及制备方法有效

专利信息
申请号: 201611263484.4 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN106876406B 公开(公告)日: 2023-08-08
发明(设计)人: 张希娟 申请(专利权)人: 上海君万微电子科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G09G3/32
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 201203 上海市浦东新区中国(上海)*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 基于 iii 氮化物 半导体 led 全彩 显示 器件 结构 制备 方法
【说明书】:

本发明提供一种基于III‑V族氮化物半导体的LED全彩显示器件结构及制备方法,包括:有源矩阵驱动硅基背板,包括若干个驱动单元;LED微像素阵列,位于有源矩阵驱动硅基背板表面,包括若干个LED微像素;各LED微像素均包括发光材料层及阳极,各LED微像素的阳极分别与与其对应的驱动单元的阳极相连接;发光材料层位于LED微像素的阳极表面;第一导电类型III‑V族氮化物层,位于各LED微像素的发光材料层表面,且将各LED微像素相连接;彩色显示所需的颜色转换膜,位于第一导电类型的III‑V族氮化物层表面。各LED微像素及各颜色转换膜均通过厚度很小的第一导电类型III‑V族氮化物层相连接,既可以缩小相邻LED微像素的间距,以提高分辨率,又可以降低相邻颜色转换膜之间的串扰。

技术领域

本发明属于半导体技术领域,特别是涉及一种基于III-V族氮化物半导体的LED全彩显示器件结构及制备方法。

背景技术

近年来,随着III-V族氮化物(III-Nitride)半导体LED芯片技术和生产工艺的日益进步,超高亮度外延片和芯片生产、封装关键技术的不断突破,其成本也不断降低,基于氮化物(III-Nitride)半导体LED像素的LED显示器以其远超液晶覆硅(liquid-crystal-on-silicon,LCOS)和有机半导体LED(Organic-LED,OLED)的卓越性能,成为LCOS和OLED之外的另一个更具技术竞争力和发展前途的微显示技术。目前,基于氮化物(III-Nitride)半导体LED阵列的显示技术面临的一个挑战是如何实像全彩显示,这主要是由于在现有的技术条件下,还很难在同一单晶衬底上通过外延的方法制造半导体红、绿、蓝LED器件。

在氮化物(III-Nitride)半导体LED彩色显示领域,现有的专利(包括专利申请)技术可以归纳为下面几类:1.采用多颗(至少三颗以上)相互分离并且独立的红、绿、蓝LED芯片通过封装或键和的方式集成到同一硅基电路(薄膜晶体管TFT或单晶硅CMOS)基板上形成二维LED芯片阵列,并单独驱动其中的每一颗芯片,实现彩色显示效果(US09343448,PCT/EP2015/067749,PCT/EP2015/067751,PCT/CN2013/089079,PCT/CN2013/089719);2.采用多颗相互分离并且独立的白光LED芯片封装在同一电路基板上,形成二维白光LED芯片阵列,然后在白光LED芯片阵列上制作RGB滤光像素图案,每一个红色,绿色或蓝色滤光像素都覆盖在对应的白光LED芯片之上,形成对应的RGB彩色发光像素,相邻的彩色发光像素之间使用不透光的遮挡壁防止串扰,实现彩色显示效果(PCT/CN2014/073773,CN105047681);3.在单颗LED芯片上制造多个短波长(如蓝光或紫光)微小LED像素器件,这些微小LED像素器件拥有同一个LED芯片衬底,形成在单一芯片上集成的微小LED像素阵列,阵列中每一个微小LED像素都拥有横向电流传导结构,即阴极Ohmic金属接触和阳极Ohmic金属接触都朝向背对LED芯片衬底的一侧,和CMOS硅基背板上的驱动像素的电极面对面通过键合的方式连接,且电流在微小LED像素器件中主要沿着平行于LED芯片衬底表面的方向传输,最后在每一个短波长(如蓝光或紫光)微小LED像素器件的LED芯片衬底上方放置红色或绿色或蓝色颜色转换薄膜,形成对应的红-绿-蓝(RGB)彩色发光像素阵列,实现彩色显示效果(US09047818,US09111464)。

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