[发明专利]一种基于遮挡几何互补模型的光场相机深度估计方法有效

专利信息
申请号: 201611262452.2 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN106651943B 公开(公告)日: 2019-07-23
发明(设计)人: 周文晖;李鹏飞;梁麟开;李贤;王彧;潘佳琪 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: G06T7/55 分类号: G06T7/55
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 杜军
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 遮挡 几何 互补 模型 相机 深度 估计 方法
【说明书】:

发明公开了一种基于遮挡几何互补模型的光场相机深度估计方法。本发明利用光场光流理论得到光场图像多个视角的遮挡信息,再利用了相对的两个视角中,所看到遮挡区域具有互补关系的性质,通过求两个视角的遮挡信息,对两部分信息进行融合,从而实现精确的光场图像深度估计。本发明能够对具有丰富纹理变化的区域实现很好的遮挡结果,并且得到精确的深度图。

技术领域

本技术所属技术领域为计算机视觉领域,是一种基于遮挡几何互补模型的光场相机深度估计方法。

背景技术

光场相机可以捕获四维光场的空间-角度信息。与传统相机相比,它可从单帧光场图像中获取多视点或子光圈图像,为视觉分析和理解提供更有用的线索和信息。从光场图像中恢复出精确深度信息已成为当前计算机视觉和计算摄影学领域中的研究热点之一。

目前已提出了许多光场相机的深度恢复方法。早期深度恢复方法可追溯到有关焦点栈和景深提取的研究[1]。Georgiev和Lumsdaine通过计算微透镜图像间归一化互相关来估计视差图[2]。Bishop和Favaro提出一种可变贝叶斯框架重建场景深度[3]。Perwass和Wietzke提出一种基于对应性的深度估计方法[4]。Yu等人分析光场图像中线段的三维几何,并通过子光圈图像间线段匹配来计算视差图[5]。Tao等人讨论了不同深度线索在遮挡、重复纹理和噪声下的优缺点,并在此基础上,提出了基于多线索融合的深度估计方法[6]。Jeon等人提出光场相移理论实现亚像素精度的深度估计[7]。Lin等人提出基于焦点栈和数据一致性测度的深度图恢复方法[8]。然而受制于光场图像的有限空间和角度分辨率,光场相机深度恢复依然面临着精度和鲁棒性的挑战,特别是在深度不连续和遮挡区域。NeusSabater等人给出了一种基于Lytro光场相机原始数据的精确视差估计方法[9]。近期Wang等人提出了一种光场遮挡模型[10,11],虽然表现出了较好的性能,但对颜色和纹理边缘敏感,因此对于具有丰富纹理变化的物体表面难以获得令人满意的结果。

参考文献

[1]F.Nava,J.Marichal-Hernndez,and J.Rodrguez-Ramos.The discrete focalstack transform.In 16th European Signal Processing Conference(EUSIPCO 2008),2008.

[2]T.Georgiev,and A.Lumsdaine.Depth of field in plenoptic cameras.In30th Annual Conference of the European Association for Computer Graphics(EuroGraphics 2009),2009.

[3]T.E.Bishop,and P.Favaro.The light field camera:Extended depth offield,aliasing,and superresolution.In IEEE Transactions on Pattern Analysisand Machine Intelligence(PAMI),vol.34,no.5,pp.972–986,2012.

[4]C.Perwass and P.Wietzke.Single lens 3d-camera with extended depth-of-field.In SPIE Elect.Imaging,2012.

[5]Z.Yu,X.Guo,H.Ling,A.Lumsdaine,and J.Yu.Line assisted light fieldtriangulation and stereo matching.In Proceedings of International Conferenceon Computer Vision(ICCV),2013.

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611262452.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top