[发明专利]一种氟化氢气相腐蚀设备及方法

权利要求书

1.一种氟化氢气相腐蚀设备，其特征在于，

包括反应腔室、气相氟化氢源、和氟化氢气相增益装置，

所述反应腔室设有第一入气口和第二入气口，所述第一入气口与所述气相氟化氢源相连，所述第二入气口与所述氟化氢气相增益装置相连，

所述氟化氢气相增益装置用于在放置在所述反应腔室内的晶圆与从所述第一入气口进入的气相氟化氢反应后，将规定有机液体气液混合气化，并通过所述第二入气口通入所述反应腔室，以使所述气化的规定有机液体与所述残留在晶圆表面上的水形成比水更容易蒸发或挥发的共沸混合物后更容易从所述晶圆表面蒸发或挥发带出。

2.根据权利要求1所述的氟化氢气相腐蚀设备，其特征在于，

所述规定有机液体包括规定醇类有机物和/或规定酮类有机物。

3.根据权利要求1所述的氟化氢气相腐蚀设备，其特征在于，

所述规定醇类有机物包括甲醇、乙醇、丙醇中的至少一种，所述规定酮类有机物包括丙酮。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的氟化氢气相腐蚀设备，其特征在于，

所述反应腔室还设有第三入气口，所述第三入气口与氮气源相连，所述氮气源用于在完成对所述晶圆的氟化氢气相腐蚀之后，在将所述规定有机液体气化并通过所述第二入气口通入所述反应腔室之前，将氮气通过所述第三入气口通入所述反应腔室，以使所述氮气吹扫所述反应腔室中残余的氟化氢气体。

5.一种氟化氢气相腐蚀方法，其特征在于，

包括以下步骤：

在完成对晶圆的氟化氢气相腐蚀工艺后，向反应腔室中通入气化后的规定有机液体；以及

待所述气化后的规定有机液体与所述晶圆表面的水形成共沸混合物后，将所述共沸混合物从所述晶圆表面蒸发或挥发带出。

6.根据权利要求5所述的氟化氢气相腐蚀方法，其特征在于，

所述规定有机液体包括规定醇类有机物和/或规定酮类有机物。

7.根据权利要求5或6所述的氟化氢气相腐蚀方法，其特征在于，

所述规定气化的有机液体蒸汽的气体流量为1L/min～500L/min。

8.根据权利要求5或6所述的氟化氢气相腐蚀方法，其特征在于，

所述规定气化的有机液体蒸汽的气体通入时间为1min～100min。

9.根据权利要求5所述的氟化氢气相腐蚀方法，其特征在于，

在完成对晶圆的氟化氢气相腐蚀工艺后，在向反应腔室中通入气化后的规定有机液体之前，所述方法还包括如下步骤：

将氮气通入所述反应腔室，以使所述氮气吹扫所述反应腔室中残余的氟化氢气体。

10.根据权利要求9所述的氟化氢气相腐蚀方法，其特征在于，

所述氮气流量为1L/min～500L/min，吹扫时间为0.5分钟～20分钟。