[发明专利]具有可倾斜结构的微机电器件和可倾斜结构的位置检测

权利要求书

1.一种微机电器件(50；150)，包括：

平台(52)，被配置为通过旋转角度(θ)来转动；

狭缝(70)，在所述平台中；

腔(53)，面对所述平台的第一侧(52A)；以及

集成的多个光电检测器(71)，面对所述腔(53)和所述平台的第一侧，

其中所述狭缝具有矩形形状，所述矩形形状被配置为生成能够由所述集成的多个光电检测器来检测的衍射现象，以用于确定所述平台的旋转角度。

2.根据权利要求1所述的器件，其中，所述狭缝(70)具有中心(B)，并且所述多个光电检测器(71)包括被布置为与面向所述平台(52)的所述腔(53)的底壁(53A)相邻的至少一个第一光电检测器(71A)和至少一个第二光电检测器(71B)，所述第一光电检测器和所述第二光电检测器被布置为与穿过所述狭缝(70)的中心且垂直于所述底壁(53A)的垂直线相距不同的距离。

3.根据权利要求2所述的器件，其中，所述第一光电检测器(71A)沿着所述垂直线布置，并且所述第二光电检测器(71B)被布置为与所述垂直线相距一距离。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的器件，其中，所述多个光电检测器(71)包括以从直线、四边形、圆形、椭圆形和环形中选择的构型进行布置的光电检测器的阵列。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的器件，还包括用于支撑所述平台的结构(51)，所述结构包括接合到一起的第一衬底(60)和第二衬底(61)，其中所述第一衬底(60)具有面对所述第二衬底(61)的顶面(60A)并形成所述腔(53)的底壁(53A)，所述多个光电检测器(71)被集成在所述第一衬底(60)中或所述第一衬底(60)上；所述第一衬底或所述第二衬底(61)形成横向地界定所述腔(53)的承载壁(54)并包括半导体材料。

6.根据权利要求5所述的器件，包括在所述腔(53)内位于所述底壁(53A)上或所述承载壁上的抗反射结构(90)。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的器件，其中，所述狭缝(70)具有包括在1μm x10μm和5μm x50μm之间的尺寸。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的器件，其中，所述平台(52)被配置为沿着旋转轴(A)转动，并且所述狭缝(70)沿着所述旋转轴(A)相对于所述平台(52)布置在中心处。

9.根据权利要求1-3中任一项所述的器件，其中，所述多个光电检测器(71)包括以多边形构型进行布置的光电检测器的阵列。

10.根据权利要求2或3所述的器件，还包括处理单元(75)，接收分别由所述第一光电检测器(71A)和所述第二光电检测器(71B)生成的第一光强度信号和第二光强度信号，所述处理单元包括减法器(76)和计算单元(77)，所述减法器被配置为生成所述第一光强度信号和所述第二光强度信号之间的差值信号，所述计算单元用于基于所述差值信号计算所述平台(52)的旋转角度。

11.根据权利要求10所述的器件，其中，所述计算单元(77)基于以下等式计算所述平台(52)的旋转角度(θ)：

θ＝m[I(0,θ)-I(X,θ)]+q

其中，m和q是所存储的与所述器件的特性相关的参数。

12.根据权利要求1-3中任一项所述的器件，形成微反射镜。