[发明专利]氧化镁、氧化锌混合粉末的制备方法

说明书

本发明提供一种氧化镁、氧化锌混合粉末的制备方法，包括：提供氧化锌粉末和氧化镁粉末构成原料粉末；将原料粉末放入混粉设备中；向置有原料粉末的混粉设备中加入溶剂；加入溶剂后对原料粉末进行机械混合形成混合浆料；对混合浆料进行干燥处理并在干燥处理后进行分造粒处理，形成初始氧化镁、氧化锌混合粉末；对初始氧化镁、氧化锌混合粉末进行筛分造粒处理，形成氧化镁、氧化锌混合粉末。也就是说，本发明采用湿混工艺以形成氧化镁、氧化锌混合粉末，所述湿混工艺有利于提高混粉均匀性，且可以降低氧化镁、氧化锌混合粉末发生结块的概率，使氧化镁、氧化锌混合粉末具有良好的流动性。

技术领域

本发明涉及靶材溅射领域，尤其涉及一种氧化镁、氧化锌混合粉末的制备方法。

背景技术

溅射技术是靶材溅射领域的常用工艺之一，随着溅射技术的日益发展，溅射靶材在溅射技术中起到了越来越重要的作用。溅射靶材主要由靶坯和背板组成，其中，靶坯的质量直接影响到了溅射靶材的成膜质量。

氧化锌(ZnO)是一种直接带隙宽禁带(3.37eV)Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体材料，具有较大的激子束缚能(60meV)，且氧化锌还是优质的压电、气敏及光电材料。由于氧化锌在结构、能带、电学和光学方面具有诸多优点，且氧化锌薄膜的制作方法很多，因此氧化锌在器件应用方面具有广阔的应用范围，可以被用来制造透明电极、压敏电阻、太阳能电池窗口、表面声波器件、气体传感器、发光二极管等。

目前，氧化镁氧化锌靶坯已被广泛应用于金属镀膜、磁存储材料等高强耐磨行业领域。为了保证溅射靶材的成膜质量，不仅对氧化镁氧化锌靶坯的纯度以及相对致密度有很高的要求，同时对氧化镁氧化锌靶坯的微观结构均匀性也有着很高的要求。

其中，为了提高氧化镁氧化锌靶坯的致密度和微观结构均匀性，氧化镁氧化锌靶坯的制造工艺主要为烧结工艺。即采用氧化镁、氧化锌混合粉末作为原料粉末，经过成形和烧结，制成氧化镁氧化锌靶坯。

然而，现有技术所形成氧化镁、氧化锌混合粉末的质量较差。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种氧化镁、氧化锌混合粉末的制备方法，以提高所形成氧化镁、氧化锌混合粉末的质量。

为解决上述问题，本发明提供一种氧化镁、氧化锌混合粉末的制备方法，包括：提供氧化锌粉末和氧化镁粉末，构成原料粉末；将所述原料粉末放入混粉设备中；向置有所述原料粉末的混粉设备中加入溶剂；加入所述溶剂后，对所述原料粉末进行机械混合，形成混合浆料；对所述混合浆料进行干燥处理，形成初始氧化镁、氧化锌混合粉末对所述初始氧化镁、氧化锌混合粉末进行筛分造粒处理，形成氧化镁、氧化锌混合粉末。

可选的，提供氧化锌粉末和氧化镁粉末的步骤中，所述氧化锌粉末和氧化镁粉末的质量比为77:23至97:3。

可选的，所述溶剂为工业酒精、纯水或四氯化碳溶液。

可选的，对所述原料粉末进行机械混合之前，所述制备方法还包括：向所述混粉设备中加入研磨介质。

可选的，所述研磨介质和所述原料粉末的质量比为1:1至1:3。

可选的，所述研磨介质包括第一氧化锆球、第二氧化锆球和第三氧化锆球中的两种或三种，且所述第一氧化锆球、第二氧化锆球和第三氧化锆球的直径各不相同。

可选的，所述第一氧化锆球的直径为10毫米，所述第二氧化锆球的直径为20毫米，所述第三氧化锆球的直径为30毫米。

可选的，所述研磨介质包括第一氧化锆球、第二氧化锆球和第三氧化锆球，所述第一氧化锆球、第二氧化锆球和第三氧化锆球的质量比为1:1:1至1:2:3。

可选的，所述溶剂为工业酒精，向置有所述原料粉末的混粉设备中加入溶剂的步骤中，所述溶剂的质量占所述原料粉末、研磨介质和溶剂总质量的1％至10％。