[发明专利]一种电子设备、阵列基板及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种电子设备、阵列基板及其制作方法。

背景技术

现有技术中，液晶显示基板包括BM(黑矩阵)与PS(Photo Space；间隔物)，其中，BM在液晶显示基板中起到遮光作用，以使显示面板达到较佳的显示效果，PS设置于两基板之间以维持液晶显示基板两基板之间的距离，以使液晶盒形成固定值的盒厚。

目前业界制作液晶显示基板的BM与PS，通常是采用改进的材料BPS(Black Photo Space)，将BM与PS合成在一道制程中完成，但目前的处理方法需要借助MTM(Multi Tone Mask；多段式调整光罩)技术，MTM光罩上设计有三种不同的透过率，以对BPS实现三种不同强度的光照曝光，进而得到三个不同厚度的BPS图形，但由于MTM光罩复杂而且昂贵，导致液晶显示面板的生产成本居高不下，并且在曝光时需要同时兼顾三个高度，BPS黄光工艺较难调节，制作精度难以保证，容易导致产品品质变差，影响产品良率，并且生产效率不高。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种电子设备、阵列基板及其制作方法，可提高产品良率，并且降低产品成本，提高生产效率。

为解决上述技术问题，本发明的第一方面提供一种阵列基板，包括：基层；至少第一色阻层、第二色阻层，并排设置于基层一侧；遮光层，设置于第一色阻层和/或第二色阻层的背对基层一侧；凸块，背向基层而凸起第一色阻层，并设置于遮光层与第一色阻层之间，和/或背向基层而凸起第二色阻层，并设置于遮光层与第二色阻层之间，使得凸块之上的遮光层跟随凸起以形成间隔柱。

其中，凸块至少包括第一凸块、第二凸块；第一凸块、第二凸块同高，且两者之上的遮光层分别采用不同光线通过率的光罩蚀刻而成；或第一凸块、第二凸块不同高，且两者之上的遮光层分别采用相同光线通过率的光罩蚀刻而成。

其中，不同光线通过率的光罩为具有不同透光率区域的同一光罩。

其中，阵列基板进一步包括：设置于遮光层与基层之间的平坦钝化层，凸块位于平坦钝化层与第一色阻层和/或第二色阻层之间。

其中，遮光层沿着第一色阻层、第二色阻层的排列方向条状延伸，同时也沿着第一色阻层、第二色阻层之间的分界线条状延伸；或遮光层仅沿着第一色阻层、第二色阻层的排列方向条状延伸，阵列基板包括像素电极以及沿着第一色阻层、第二色阻层之间的分界线条状延伸的阵列公共电极，阵列公共电极与像素电极同层设置，且电压与对基板上的公共电极相同。

其中，凸起第一色阻层的凸块与第二色阻层同材料形成；或凸起第二色阻层的凸块与第一色阻层同材料形成。

为解决上述技术问题，本发明的第二方面提供一种电子设备，包括上述阵列基板。

为解决上述技术问题，本发明的第三方面提供一种阵列基板的制作方法，包括：在基层一侧形成并排设置的至少第一色阻层、第二色阻层，并形成背向基层而凸起第一色阻层，和/或背向基层而凸起第二色阻层的凸块；在第一色阻层和/或第二色阻层的背对基层一侧形成遮光层，使得凸块之上的遮光层跟随凸起以形成间隔柱。

其中，形成背向基层而凸起第一色阻层，和/或背向基层而凸起第二色阻层的凸块的步骤包括：形成背向基层而凸起第一色阻层，和背向基层而凸起第二色阻层的至少第一凸块及第二凸块，第一凸块与第二凸块同高或不同高；在第一色阻层和/或第二色阻层的背对基层一侧形成遮光层的步骤包括：在基板设有第一色阻层及第二色阻层的一侧形成遮光光阻层；对于第一凸块、第二凸块同高的情况，通过光罩照射遮光光阻层，光罩分别对应第一凸块、第二凸块的区域光线通过率不同；或对于第一凸块、第二凸块不同高的情况，通过光罩照射遮光光阻层，光罩分别对应第一凸块、第二凸块的区域光线通过率相同。

其中，在基层一侧形成并排设置的至少第一色阻层、第二色阻层，并形成背向基层而凸起第一色阻层，和/或背向基层而凸起第二色阻层的凸块的步骤包括：在形成第二色阻层的同时，留下一部分覆盖第一色阻层的第二色阻层而获得凸块；或在形成第一色阻层的同时，留下一部分覆盖第二色阻层的第一色阻层而获得凸块。

通过上述方案，本发明的有益效果是：区别于现有技术，本发明的电子设备、阵列基板及其制作方法，其中阵列基板上形成有基层、多个色阻层及遮光层，遮光层设置于色阻层背对基层的一侧，凸块设置于基层与遮光层之间并且凸面凸向色阻层，凸块及凸块之上的遮光层一并凸起形成间隔柱，因此本发明的阵列基板，可改善产品良率，降低生产成本，并且提高生产效率。

附图说明