[发明专利]一种利用糖作掩模的微纳加工方法

说明书

本发明公开了一种利用糖作掩模的微纳加工方法，其包括步骤：S10、提供熔融状态的糖或糖溶液；S20、将熔融状态的糖或糖溶液施加到待加工的样品表面，形成掩模图案；S30、对形成掩模图案后的样品进行微纳加工；S40、将微纳加工后的样品放入糖溶性液体中，以去除样品表面的糖。本发明的微纳加工方法能够提高微纳加工的精度和效率，降低成本，同时大大减轻对环境和操作人员人身健康的不利影响。

技术领域

本发明涉及微纳制造技术领域，具体涉及一种利用糖作掩模的微纳加工方法。

背景技术

掩模作为微纳加工中常用的一种工艺步骤，是样品进行刻蚀、沉积、改性等工艺之前的重要工艺，但在完成刻蚀、沉积、改性等工艺之后，需要去除掩模材料。目前，常用的掩模材料包括金属材料(如Au、Ni、Al等)，金属化合物(如SiO₂、Si₃N₄、TiN等)和光刻胶等，这些常用的掩模材料不仅成本较高，而且大多需要使用专门的化学试剂才能去除，而这些化学试剂存在污染环境、微毒、对人体有害等问题。此外，在选择化学试剂时还要考虑对样品材料是否有影响，进一步增加了掩模材料去除的难度。

为此，如果能寻找到一种新的易于去除，成本低的掩模材料，特别是去除过程对环境、人体都无害的掩模材料，则对于掩模工艺本身乃至对于微纳加工领域都将具有重要意义。

发明内容

基于上述现状，本发明的主要目的在于提供一种利用糖作掩模的微纳加工方法，其所采用的掩模材料为糖，去除过程容易且无害，并且成本很低。

上述目的通过以下技术方案实现：

一种利用糖作掩模的微纳加工方法，其包括步骤：

S10、提供熔融状态的糖或糖溶液；

S20、将熔融状态的糖或糖溶液施加到待加工的样品表面，形成掩模图案；

S30、对形成掩模图案后的样品进行微纳加工；

S40、将微纳加工后的样品放入糖溶性液体中，以去除样品表面的糖。

优选地，所述糖包括单一种类的糖、糖的混合物或含糖物质。

优选地，步骤S10中，提供熔融状态的糖包括将糖加热至温度超过所述糖的熔点，并保持温度恒定；提供糖溶液包括将糖与糖溶性液体混合后配置成糖溶液。

优选地，步骤S20中，将熔融状态的糖或糖溶液施加到样品表面的方式包括打印、滴、甩、喷、涂、点、射、压、写、粘和/或沉积。

优选地，步骤S20中，当采用熔融状态的糖时，将待加工的样品加热至温度接近或等于或高于所述糖的熔点并保持温度恒定，然后再施加糖，施加完毕后，将待加工的样品冷却至室温，得到掩模图案。

优选地，步骤S20中，当采用糖溶液时，将糖溶液施加到待加工的样品表面，然后蒸发掉样品表面上的糖溶液中的溶剂，得到掩模图案。

优选地，所述微纳加工包括刻蚀、沉积、和/或改性。

优选地，步骤S40中，所述糖溶性液体为水、乙醇、甲醇或乙酸，或者为乙醇、甲醇或乙酸的水溶液。

优选地，步骤S40之后，还包括步骤：

S50、将样品从糖溶性液体中取出，进行干燥。

优选地，步骤S50中，进行干燥的方式包括将样品放置在加热装置上进行烘干。