[发明专利]一种抗菌镀膜树脂镜片及其制造方法

权利要求书

1.一种抗菌镀膜树脂镜片，包括树脂镜片、浸涂于树脂镜片表面的耐磨加硬层及镀制于所述耐磨加硬层外表面的增透膜层、抗菌层、粘结层和顶层防水层，其特征在于：所述的抗菌层和粘结层依次镀制于增透膜层与顶层防水层之间，所述的抗菌层是由银、铜、锌、钛中的一种或多种金属氧化物在增透膜层表面镀制而成，所述的粘结层是由二氧化硅、一氧化硅、氧化铝、氧化锆中的一种或多种氧化物在所述抗菌层的表面镀制而成，用以增加所述抗菌层与顶层防水层之间的附着力。

2.根据权利要求1所述的一种抗菌镀膜树脂镜片，其特征在于：所述的抗菌层和所述的粘结层采用真空溅射镀膜技术和离子源辅助镀膜技术镀制而成，所述的防水层采用真空溅射镀膜技术镀制于所述的粘结层表面。

3.根据权利要求1所述的一种抗菌镀膜树脂镜片，其特征在于：所述的增透膜层是一种2～7层的多层结构，其每一层是由氧化硅、氧化锆和氧化铟锡中的至少一种镀制而成。

4.根据权利要求1所述的一种抗菌镀膜树脂镜片，其特征在于：所述的增透膜层中的单层厚度为10nm～150nm，总厚度控制在150nm～600nm，所述抗菌层的厚度控制在1nm～100nm，所述粘结层的厚度控制在1nm～20nm。

5.一种权利要求1～4中任意一项所述抗菌镀膜树脂镜片的制造方法，其特征在于包括如下步骤：

（1）将清洗干净的树脂镜片采用浸涂工艺进行加硬处理，得到高硬度的耐磨加硬层；

（2）采用真空溅射镀膜技术和离子源辅助镀膜技术在步骤（1）处理获得的耐磨加硬层表面镀制增透膜层，所述的增透膜层是每一单层由氧化硅、氧化锆和氧化铟锡中的至少一种镀制而成的2～7层的多层结构，每一单层厚度为10nm～150nm，总厚度控制在150nm～600nm；离子源辅助镀膜的工艺条件为阳极电压80V～150V，阳极电流0.8A～1.5A，Ar的流量为1sccm～40sccm；

（3）采用真空溅射镀膜技术和离子源辅助镀膜技术在步骤（2）镀制获得的增透膜层表面再镀制抗菌层，厚度控制在1nm～100nm，镀制工艺条件为：真空度为3.5×10^-5 mbar～1.5×10^-5 mbar，蒸发速率为0.1nm/s ~0.5 nm/s，O₂的流量为1sccm～40sccm；离子源辅助镀膜技术的工艺条件为阳极电压80V～150V，阳极电流0.8A～1.5A，Ar的流量为1sccm～40sccm；

（4）继续采用真空溅射镀膜技术和离子源辅助镀膜技术在步骤（3）镀制获得的抗菌层表面镀制粘结层，厚度控制在1nm～20nm，镀制工艺条件为：真空度为3.5×10^-5 mbar～1.5×10^-5 mbar，蒸发速率为0.1nm/s ~0.3 nm/s，O₂的流量为0sccm～20sccm，离子源辅助镀膜技术的工艺条件为阳极电压80V～150V，阳极电流0.8A～1.5A，Ar的流量为1sccm～40sccm；

（5）继续采用真空溅射镀膜技术在步骤（4）镀制获得的粘结层表面镀制顶层防水层。

6.根据权利要求5所述的抗菌镀膜树脂镜片的制造方法，其特征在于所述步骤（2）中镀制增透膜层的镀制工艺条件为：真空度为3.5×10^-5 mbar～1.0×10^-5 mbar，蒸发速率为0.1nm/s ~0.6 nm/s，O₂的流量为0sccm ~50sccm。