[发明专利]光学膜与其制备方法有效

专利信息
申请号: 201611213835.0 申请日: 2016-12-23
公开(公告)号: CN108237736B 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 张国臻;刘鹏飞;姚珍 申请(专利权)人: 张家港康得新光电材料有限公司
主分类号: B32B7/12 分类号: B32B7/12;B32B27/08;B32B27/30;B32B27/40;B32B33/00;B32B37/12;B32B38/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 赵囡囡;吴贵明
地址: 215634 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 光学 与其 制备 方法
【说明书】:

本申请提供了一种光学膜与其制备方法。该光学膜包括:光学功能层;光学基材层,设置在上述光学功能层的表面;水性可剥离保护层,设置在上述光学基材层的远离上述光学功能层的表面上。该光学膜中的光学基材层的表面设置有水性可剥离保护层,该水性可剥离保护层的材料为水性可剥离保护胶水,能够减少该光学膜在制备过程中对环境的污染,另外,该水性可剥离保护层的成本远低于现有技术中的其他保护层的成本;并且,该水性可剥离胶水干燥后无翘曲现象,服帖性较好,不影响后续的光学膜的使用;另外,该水性可剥离保护层容易剥离,且没有残留,使得剥离后的光学基材层的表面较光滑。

技术领域

本申请涉及光学材料领域,具体而言,涉及一种光学膜与其制备方法。

背景技术

光学膜主要用于显示摄像等方面,该膜组包括光学基材层与设置在光学基材层一个表面上的光学功能层。光学膜对膜表面的要求较高。而在生产过程中膜组中的光学基材层很容易被生产机台所划伤。

为保护光学基材层在生产过程中不被刮伤,现有技术使用保护层贴合到光学基材层上来保护光学基材层避免接触到导辊面的表面。

现有技术中,设置保护层工艺比较复杂,保护层需要跟随光学基材层进入烘箱内,由于两层的热收缩率不同,而导致烘干后的光学膜的表面产生不同程度的翘曲,在后面其他制程工艺中无法使用。

而如果使用相同收缩率的保护层和光学基材层,最简单的方法是保护层和光学基材层使用相同材料,但此方法原物料成本会直接翻番。而如果采用其他耐高温材料作为保护层,光学膜的成本也较高。

另外,现有技术中的保护层不易剥离,剥离后的光学基材层的表面残留有保护层材料,使得后续也无法使用。

发明内容

本申请的主要目的在于提供一种光学膜与其制备方法,以解决现有技术中的保护层不易剥离的问题。

为了实现上述目的,根据本申请的一个方面,提供了一种光学膜,该光学膜包括:光学功能层;光学基材层,设置在上述光学功能层的表面;水性可剥离保护层,设置在上述光学基材层的远离上述光学功能层的表面上。

进一步地,形成上述水性可剥离保护层的材料包括水性聚氨酯乳液、水性丙烯酸酯乳液离型剂与水。

进一步地,在形成上述水性可剥离保护层的材料中,上述水性聚氨酯乳液的重量百分比在19.5~60%之间,上述水性丙烯酸酯乳液离型剂的重量百分比在0.5~20%之间,上述水的重量百分比在20~80%之间。

进一步地,上述水性可剥离保护层的厚度在1~10μm之间,优选上述水性可剥离保护层的厚度在2~6μm之间。

进一步地,上述光学功能层为紫外线阻隔层、红外线阻隔层和/或水汽阻隔层。

进一步地,上述光学基材层的厚度在10~500μm之间,优选上述光学基材层的厚度在25~125μm之间。

根据本申请的另一方面,提供了一种光学膜的制备方法,该制备方法包括:步骤S1,在光学基材层的一个表面上设置水性可剥离胶水,并对上述水性可剥离胶水进行干燥,形成水性可剥离保护层;步骤S2,在光学基材层的远离上述水性可剥离保护层的表面上设置光学功能树脂,形成光学功能层。

进一步地,上述水性可剥离胶水包括水性聚氨酯乳液、水性丙烯酸酯乳液离型剂与水,优选在上述水性可剥离胶水中,上述水性聚氨酯乳液的重量百分比在19.5~60%之间,上述水性丙烯酸酯乳液离型剂的重量百分比在0.5~20%之间,上述水的重量百分比在20~80%之间。

进一步地,上述步骤S1中,采用狭缝挤出涂布法、凹版涂布法或丝网印刷涂布法涂布水性可剥离胶水。

进一步地,上述步骤S2中,采用悬涂法、微凹涂布法、狭缝涂布法、PVD法、CVD法或PECVD法设置光学功能树脂。

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