[发明专利]一种军用发射架主梁的强化处理方法

权利要求书

1.一种军用发射架主梁的强化处理方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)选择20CrMnSiA作为发射架的主梁材料；

2)涂层粉制备：选择20CrMnSiA，以及粒度为200-240目的WC粉，分别制备不同组分的涂层粉，包括：

2.1 首先，选择240目的WC粉以及20CrMnSiA，WC粉占20CrMnSiA总重量的25-30％，随后在真空度为10^-4-10^-5Pa下，进行真空感应熔炼，加热到其熔点100-150℃以上保温5-10min，此过程伴随电磁搅拌以使得WC粉在熔体中混合均匀，随后熔体进入雾化室，对金属液的出口处雾化喷嘴喷出高压氩气，高压氩气对金属液滴进行碰撞，使其破碎成球形粉末，高压氩气压力为4-6MPa，随后经旋流沉降进入收料管，并进行筛分后得到第一复合涂层粉料；

2.2 随后选择200目的WC粉以及20CrMnSiA，WC粉占20CrMnSiA总重量的15-20％，在相同条件下制备第二复合涂层粉料；

2.3 随后选择140目的WC粉以及20CrMnSiA，WC粉占20CrMnSiA总重量的10-15％，在相同条件下制备第三复合涂层粉料；

3)选择200目的第一复合涂层粉料，160目的第二复合涂层粉料，120目的第三复合涂层粉料，采用水玻璃分别与三种复合涂层粉料混合分别得到第一、第二、第三熔覆粉；

4)激光熔覆涂层，具体包括：

4.1 发射架主梁预热到150-200℃，将第一熔覆粉敷在发射架主梁表面，厚度为0.5-1mm，采用激光器对发射架主梁表面进行逐层激光扫描加热，熔化所述第一熔覆料并使其附着在发射架主梁表面，激光器功率为2.5KW，电流为300A，激光扫描速度为3-5mm/s，光束直径为12.2mm，熔覆过程通氩气保护形成第一涂层；

4.2 将得到第一涂层的发射架主梁预热到150-200℃，随后将第二熔覆料覆在发射架主梁表面，厚度为1-1.2mm，并在保温炉中烘烤0.5h后以相同工艺进行激光熔覆得到第二涂层；

4.3 将得到第二涂层的发射架主梁预热到150-200℃，随后将第三熔覆料覆在发射架主梁表面，厚度为1.0-1.5mm，并在保温炉中烘烤0.5h后以相同工艺进行激光熔覆得到第三涂层。