[发明专利]具有高含量、高稳定性BMP涂层的种植体

权利要求书

1.具有高含量、高稳定性BMP活性表面涂层的种植体，所述种植体的外表面设置有螺纹，所述种植体两端分别为颈部和头部，其特征在于，所述头部的外表面上设置有螺旋状自攻槽，所述螺旋状自攻槽的螺旋方向与螺纹螺旋方向相同，所述螺旋状自攻槽的螺纹升角与螺纹的螺纹升角不同；所述种植体表面层具有钛基底层，所述钛基底层外表面具有二氧化钛基层，所述二氧化钛基层的外表面交替涂覆有带正电荷的Ⅰ型胶原蛋白/BMP复合涂层和带负电荷的HA涂层。

2.根据权利要求1所述的种植体，其特征在于，该种植体的活性表面涂层的制备方法包括以下步骤：

(1)将种植体表面用200、300、600和2000目砂纸逐级打磨，清洗，在60℃烘干；

(2)用75μm TiO₂颗粒，通过喷嘴对种植体表面进行喷砂处理；

(3)将喷砂处理后的种植体置于氢氟酸与盐酸组成的混合酸蚀剂中进行表面刻蚀处理，取出种植体超声清洗，室温自然干燥；

(4)表面刻蚀处理、干燥后的种植体置于60℃、5mol/L NaOH溶液孵育24-48h，用水超声清洗后，干燥后600℃下处理1-2h；

(5)干燥处理后的种植体浸入带正电荷的Ⅰ型胶原蛋白/BMP复合涂层溶液中，室温放置10-30min，用蒸馏水清洗；

(6)蒸馏水清洗后的种植体浸入带负电荷的HA涂层溶液中，室温放置10-30min，用蒸馏水清洗；

(7)重复步骤(5)-(6)即可得到带有不同层数涂层的种植体活性表面。

3.根据权利要求2所述的种植体，其特征在于，所述的带正电荷的Ⅰ型胶原蛋白/BMP复合涂层溶液按照如下方法制备得到：将Ⅰ型胶原蛋白溶解于去离子水中，用HCl调整pH值至4.0，加入NaCl溶解，再加入BMP，搅拌溶解，得复合涂层溶液，其中在所述复合涂层溶液中，Ⅰ型胶原蛋白浓度为1-2mg/mL，NaCl浓度为0.1-0.2M，BMP浓度为1-5mg/mL。

4.根据权利要求2所述的种植体，其特征在于，所述的带负电荷的HA涂层溶液按照如下方法制备得到：将透明质酸钠和NaCl溶解于去离子水中，用HCl调整pH值至2.9，得到HA涂层溶液，其中在溶液中透明质酸钠浓度为1-2mg/mL，NaCl的终浓度为0.1-0.2M。

5.根据权利要求2所述的种植体，其特征在于，在步骤(2)中，所述的喷砂处理条件为：压缩空气压力为0.3-0.4MPa，喷嘴离种植体表面的距离为5-10cm，喷射时间为2-10s。

6.根据权利要求2所述的种植体，其特征在于，在步骤(3)中，所述的混合酸蚀剂为47％的HF与38％的HCl按照体积比1:1混合的混合液。

7.根据权利要求2所述的种植体，其特征在于，在步骤(3)中，所述的表面刻蚀处理温度为60℃，刻蚀处理时间为10-20min。

8.根据权利要求1所述的种植体，其特征在于，所述自攻槽由两个圆弧面组成，两个圆弧面的结合部位为相切连接；所述自攻槽个数为两个以上，所述两个以上自攻槽均布在头部的外表面；所述头部为锥台，所述头部锥台的大径端靠近颈部，所述头部远离颈部的一端为圆弧面；所述颈部为锥台，所述颈部锥台的大径端靠近头部；所述自攻槽的深度自头部锥台的小径端向头部锥台的大径端逐渐变浅。

9.根据权利要求1所述的种植体，其特征在于，所述盲孔与种植体同轴，所述盲孔包括同轴顺次连接的圆锥孔、梅花形孔、圆柱孔和螺纹孔，所述圆锥孔靠近盲孔开口端，所述圆锥孔为符合莫氏圆锥面的圆锥孔；所述梅花形孔为横截面为梅花形通孔。