[发明专利]基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置

说明书

本发明提供一种基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置。曝光控制方法包括：以第一投影机亮度投射具有多个扫描图样的结构光于物体以扫描物体，并捕获物体对应所述扫描图样的多个第一影像；根据上述第一影像计算出第一立体影像；以第二投影机亮度投射具有多个扫描图样的结构光于物体以扫描物体，并捕获物体对应所述扫描图样的多个第二影像，其中第二投影机亮度小于第一投影机亮度；根据所述第二影像计算出第二立体影像；以及结合第一立体影像及第二立体影像以获得第一完整立体影像。本发明的曝光控制方法及曝光控制装置能够结合不同曝光条件的立体影像获得完整立体影像。

技术领域

本发明涉及一种曝光控制方法及曝光控制装置，且特别涉及一种基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置。

背景技术

在计算机图学的领域中，针对物体外观轮廓的几何量测技术在现今的应用上，例如工业设计、逆向工程、制造零件检测、数字文物典藏、文物遗迹考古等均有三维取像与数据分析的需求。

以现有基于时间编码的结构光(time-coded structured light)而言，其可提供相当精细的立体扫描结果。此种扫描方式是利用不同相位移以及频率的结构光投射到物体表面，再利用影像捕获设备捕获因物体表面轮廓而造成变形的结构光的多张影像，以藉由影像分析得到物体的完整表面信息。然而，在投射具有结构光的图样到物体表面时可能因为曝光过度造成错误立体信息，或因为曝光不足而造成信心度过低而计算出错误率高的立体信息。

发明内容

本发明提供一种基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置，结合不同曝光条件的立体影像以获得完整立体影像。

本发明的基于结构光的曝光控制方法适用于具有投影机及影像捕获设备的曝光控制装置，上述曝光控制方法包括：利用投影机以第一投影机亮度投射具有多个扫描图样的结构光于物体以扫描物体，并利用影像捕获设备捕获物体对应所述扫描图样的多个第一影像；根据所述第一影像计算出第一立体影像；利用投影机以第二投影机亮度投射具有多个扫描图样的结构光于物体以扫描物体，并利用影像捕获设备捕获物体对应所述扫描图样的多个第二影像，其中第二投影机亮度小于第一投影机亮度；根据多个第二影像计算出第二立体影像；以及结合第一立体影像及第二立体影像以获得第一完整立体影像。

本发明的基于结构光的曝光控制装置包括投影机、影像捕获设备及处理器。处理器耦接投影机及影像捕获设备。处理器指示投影机以第一投影机亮度投射具有多个扫描图样的结构光于物体以扫描物体，并指示影像捕获设备捕获物体对应所述扫描图样的多个第一影像。处理器根据所述第一影像计算出第一立体影像。处理器指示投影机以第二投影机亮度投射具有多个扫描图样的结构光于物体以扫描物体，并指示影像捕获设备捕获物体对应所述扫描图样的多个第二影像，其中第二投影机亮度小于第一投影机亮度。处理器根据些第二影像计算出第二立体影像。处理器结合第一立体影像及第二立体影像以获得第一完整立体影像。

基于上述，本发明的曝光控制方法及曝光控制装置会以不同投影机亮度投射具有多个扫描图案的结构光于物体以扫描物体，并捕获对应不同投影机亮度的多个第一影像及第二影像，最后再结合第一立体影像及第二立体影像以获得完整的立体影像。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所示附图作详细说明如下。

附图说明

图1是根据本发明一实施例所显示的曝光控制装置的方块图；

图2是根据本发明一实施例所显示的曝光控制装置的示意图；

图3是根据本发明一实施例所显示的曝光控制方法的流程图；

图4是根据本发明一实施例所显示的曝光过度的立体影像的示意图；

图5是根据本发明一实施例所显示的曝光不足的立体影像的示意图；