[发明专利]使等离子体处理气体快速冷却的洗涤部以及废气处理装置在审
申请号: | 201611192465.7 | 申请日: | 2016-12-21 |
公开(公告)号: | CN108607316A | 公开(公告)日: | 2018-10-02 |
发明(设计)人: | 金翼年;姜成玉;安在闰;严敏钦 | 申请(专利权)人: | 韩国三重核心株式会社 |
主分类号: | B01D53/00 | 分类号: | B01D53/00;B01D53/32;B01D53/56 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 孙昌浩;李盛泉 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 冷却模块 壳体 洗涤 等离子体处理 废气处理装置 快速冷却 冷却流体 等离子体 中空圆筒形状 喷射区域 上端 废气 冷却 配置 | ||
本发明涉及使等离子体处理气体快速冷却的洗涤部以及废气处理装置,本发明的洗涤部用于构成利用等离子体对所供给的废气进行处理的装置,上述洗涤部包括:壳体(310),呈中空圆筒形状;第一冷却模块(320),配置于上述壳体(310)的内部上侧;以及第二冷却模块(340),在上述第一冷却模块(320)的下部侧,以能够分离的方式与上述壳体(310)的内部相结合,通过借助由上述第一冷却模块(320)向上述壳体(310)供给的第一冷却流体在上述壳体(310)的上端所形成的幕膜及借助由上述第二冷却模块(340)供给的第二冷却流体在上述幕膜的下部侧所形成的喷射区域来执行冷却。
技术领域
本发明涉及可使经等离子体处理的气体快速冷却的冷却技术,更详细地,涉及可使在等离子体与废气之间产生反应后所形成的等离子体处理气体快速冷却的洗涤部以及废气处理装置。
背景技术
通常,等离子体为由具有电极性的电子及离子构成的第四物质状态,整体上以负电荷数和正电荷数几乎相同的密度分布,在电方面几乎形成中性。等离子体分为如电弧等的温度高的高温等离子体和低温等离子体,在低温等离子体中,电子的能量虽高,但离子的能量低,因而实际感受到的温度相当于室温,大多借助直流、交流、超高频、电子束等的电放电来生成。
在韩国公开专利10-2016-0043820号中,公开了利用这种等离子体来处理废气等的装置结构。
通常,这种等离子体的发生方式之一为通过电弧放电来发生等离子体,在此情况下,废气处理装置包括:等离子体发生部,通过电弧放电产生气炬,即火焰,通过所流入的工作气体来生成等离子体;反应部,使从上述等离子体发生部移送的等离子体与所流入的废气混合来进行处理;以及洗涤部,借助水等来对在上述反应部进行处理的气体进行洗涤,使温度降低。
在上述等离子体发生部中,注入用于在阴电极与阳电极之间发生等离子体的氮等的工作气体并施加电源来产生电弧放电,由此形成射流等离子体,通过配置于等离子体发生部的1个以上的供给管来以可使工作气体做回旋运动的方式供给工作气体。
另一方面,需要一种在有效管理在反应部混合等离子体和所流入的废气后在通过洗涤部降低温度之后排出的过程中所产生的热量的同时可减少有害产物的方案。
专利文献1:韩国公开专利10-2016-0043820A
发明内容
本发明用于解决如上所述的以往的问题,本发明的目的在于提供可使在等离子体与废气之间产生反应后所形成的等离子体处理气体快速冷却的洗涤部以及废气处理装置。
用于实现如上所述的目的的本发明一实施方式的洗涤部用于构成利用等离子体对所供给的废气进行处理的装置,上述洗涤部包括:壳体310,呈中空圆筒形状;第一冷却模块320,配置于上述壳体310的内部上侧;以及第二冷却模块340,在上述第一冷却模块320的下部侧,以可分离的方式与上述壳体310的内部相结合,通过借助由上述第一冷却模块320向上述壳体310供给的第一冷却流体在上述壳体310的上端所形成的幕膜及借助由上述第二冷却模块340供给的第二冷却流体在上述幕膜的下部侧所形成的喷射区域来执行冷却。
上述壳体310包括:外部壳体311;内部壳体315,以隔开方式配置于上述外部壳体311的内侧;冷却水腔室117,上述冷却水腔室117为形成于上述外部壳体311与内部壳体315之间的空间;以及腔室孔116,贯通上述内部壳体315的内部面、外部面而成。
上述第二冷却模块340在从上述第一冷却模块320朝向下部方向隔开规定距离的状态下以多级的方式配置有多个。
上述第二冷却模块340包括:冷却本体341,具有环形结构;冷却水供给喷嘴342,贯通上述冷却本体341的内部面、外部面而成,用于使上述腔室孔116与冷却本体341的内部区域之间相连通;以及冷却水引导部345,在上述冷却本体341的上端朝向内侧延伸而成。
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