[发明专利]一种指甲抛光条及其制备方法

权利要求书

1.一种指甲抛光条，其特征在于，包括基板(1)和抛光层(2)，所述抛光层(2)包括若干密集分布的抛光齿(3)，抛光齿(3)的底部固定在基板(1)上。

2.根据权利要求1所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光齿(3)呈垂直于基板的柱形，抛光齿(3)径向最大宽度为150～250μm，抛光齿(3)间的间距为80～150μm。

3.根据权利要求1所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光齿(3)呈垂直于基板(1)的柱形，抛光齿(3)径向最大宽度为180～220μm，抛光齿(3)间的间距为100～110μm。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光齿(3)高度为18～22μm。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光齿(3)形状为圆柱、四棱柱、六棱柱和三棱柱中的一种。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的一种指甲抛光条，其特征在于，抛光齿(3)底部与基板(1)连接为一体式。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述基板(1)和抛光齿(3)的材质为玻璃。

8.根据权利要求1～3中任一项所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述基板(1)和抛光齿(3)的材质为青玻璃、超白玻璃和康宁玻璃中的一种。

9.根据权利要求1所述的一种指甲抛光条，其特征在于，所述抛光齿(3)顶部覆有一层铬层。

10.如权利要求1～9中任一项所述的一种指甲抛光条的制备方法，其特征在于，包括以下工艺步骤：

掩膜版制作：取一块玻璃板(41)，在其表面镀上铬膜(42)，通过激光直写在铬膜表面形成若干直径为150～250μm、相互间距为100～150μm的小凸点(43)，即制得掩膜版(4)；

基板处理：取一块高硬度玻璃板为基板(1)，在其表面真空镀上一层铬膜(51)，再在铬膜(51)上旋涂一层光刻胶(52)，得到基板复合层(5)；

紫外光刻：将基板复合层(5)与掩膜版(4)紧密贴合后在紫外光刻机上曝光处理；

显影和蚀刻：将曝光处理好的基板复合层(5)与掩膜版(4)分离，再将基板复合层(5)置于四甲基氢氧化铵溶液中使光刻胶显影，再置于硝酸铈铵溶液中做铬膜蚀刻，蚀刻好以后再烘烤，此时基板复合层(5)上形成若干柱状凸起，且柱状凸起在基板复合层(5)上构成了与掩膜版(4)一致的图案；

玻璃蚀刻：将基板复合层(5)置于玻璃腐蚀液中酸蚀；

去除光刻胶：基板复合层(5)的高硬度玻璃板酸蚀后，去除铬膜上方的光刻胶(52)。

11.根据权利要求10所述的一种指甲抛光条的制备方法，其特征在于，所述掩膜版制作工艺中，铬膜(42)包括与玻璃板(41)接触的铬层和铬层外侧的三氧化二铬层，铬层和三氧化二铬层总厚度为150nm，且铬层和三氧化二铬通过溅射镀膜的方式镀在玻璃板(41)上。

12.根据权利要求10所述的一种指甲抛光条的制备方法，其特征在于，所述小凸点(43)顶面形状为圆形、菱形、六边形和三角形中的一种。

13.根据权利要求10所述的一种指甲抛光条的制备方法，其特征在于，所述高硬度玻璃板为青玻璃、超白玻璃和康宁玻璃中的一种。

14.根据权利要求10所述的一种指甲抛光条的制备方法，其特征在于，所述高硬度玻璃板厚度为2～4mm。

15.根据权利要求10所述的一种指甲抛光条的制备方法，其特征在于，所述基板复合层(6)上的铬膜(51)厚度为100nm。