[发明专利]用于微小孔对中的嵌套圆拟合方法及装置有效

专利信息
申请号: 201611190459.8 申请日: 2016-12-21
公开(公告)号: CN106651989B 公开(公告)日: 2020-04-21
发明(设计)人: 孔全存;樊夏辉;刘桂礼;李东;骆荣坤;赵双琦 申请(专利权)人: 北京信息科技大学
主分类号: G06T11/20 分类号: G06T11/20;G06T7/00
代理公司: 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 代理人: 刘诚
地址: 100192 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 微小 中的 嵌套 拟合 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种用于微小孔对中的嵌套圆拟合方法,包括以下步骤:

获取第一孔与第二孔初步对中后的初始图像,所述第一孔的直径小于所述第二孔的直径;

对所述初始图像进行预处理以获得预处理图像,所述预处理图像包括与所述第一孔的外轮廓对应的第一圆、以及与所述第二孔对应的第二圆,所述第一圆与所述第二圆为嵌套圆;

建立坐标系,利用最小二乘法拟合所述第一圆,以获取所述第一圆的圆心坐标;

在所述坐标系中,通过以所述第一圆的圆心坐标为圆心作多个与所述第二圆相交的第四圆来获得约束直线,并根据所述约束直线与最小二乘法计算所述第二圆的圆心坐标;

在所述坐标系中,计算所述第一圆与所述第二圆的圆心距,所述圆心距用于据以指导所述第一孔与所述第二孔对中;

所述在所述坐标系中,通过以所述第一圆的圆心坐标为圆心作多个与所述第二圆相交的第四圆来获得约束直线,并根据所述约束直线与最小二乘法计算所述第二圆的圆心坐标包括以下步骤:

在所述坐标系中,以所述第一圆的圆心为圆心绘制半径不同并与所述第二圆相交的多个第四圆,每个所述第四圆与所述第二圆具有两个交点;

在所述坐标系中,获取每个所述第四圆与所述第二圆的两个交点的中点坐标;

在所述坐标系中,根据所述中点坐标获取约束直线;

在所述坐标系中,以所述约束直线为约束条件,建立直线约束最小二乘法的目标函数,计算所述第二圆的圆心坐标。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一孔为加工电极的电极孔,所述第二孔为合金部件表面的微小孔。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

当所述预处理图像还包括与所述第一孔的内轮廓对应且直径小于所述第一圆的第三圆时,滤除所述预处理图像中的第三圆。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第二圆的半径范围为[a,d],所述第四圆的半径范围为ri∈[a,d],ri表示为a+iΔ,Δ=(d-a)/n,1≤i≤n,n为正整数,Fi、Gi为所述两个交点并满足如下方程组:

其中,(x1,y1)为所述第一圆的圆心坐标,(xii,yii)为所述第二圆上任意一点坐标,上述方程组的解为所述两个交点Fi(xii1,yii1)和Gi(xii2,yii2),Fi(xii1,yii1)和Gi(xii2,yii2)中的角标1和角标2分别表示上述方程组中第i个方程的第一个解和第二个解。

5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述两个交点的中点为ei(xei,yei),其中,xei=(xii1+xii2)/2,yei=(yii1+yii2)/2。

6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述约束直线的斜率为k,截距为b,则k和b满足:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京信息科技大学,未经北京信息科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611190459.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top