[发明专利]消影增透导电玻璃

说明书

技术领域

本发明涉及触摸屏技术领域，具体是一种用于电容式触摸屏的消影增透导电玻璃。

背景技术

电容式触摸屏用的ITO玻璃是一种透明导电玻璃，这是由玻璃上加一层透明导电膜而构成，其工艺是在超薄玻璃（0.33mm-1.1mm）上通过物理沉积的方式沉积氧化铟锡透明导电膜。液晶显示器专用ITO导电玻璃，还会在镀ITO层之前，镀上一层二氧化硅阻挡层，以阻止基片玻璃上的钠离子向盒内液晶里扩散。

通常电容式触摸屏使用单面ITO镀膜玻璃，经过刻蚀将透明导电膜做成透明电极。但是由于导电膜的折射率与触摸屏基板的折射率不同，如ITO膜折射率一般为1.9～2.0（550nm附近），玻璃基板的折射率约为1.5（550nm附近），导致显示区内电极与缝隙的反射与透射有较大区别，使电极与缝隙清晰可见，影响显示效果和外观；而且触摸屏尺寸越大，ITO电极膜层厚度和电极宽度越大，电极与缝隙的视觉差距越明显；而且在光线比较明亮的环境中特别是背后有窗户、灯光的环境中，屏幕会由于ITO电极的反射光太强而无法看清。

解决此问题的方法有两种，第一种是采用减少缝隙的方法来降低电极与缝隙之间的视觉差距，这种消影方法受光刻设备的限制，一般适用于小尺寸的触摸屏，对于20英寸以上屏幕的触摸屏如采用微小缝隙的方法，设备投资与制造成本高、产品合格率低。

因此，为了消除ITO底影，有人采用第二种方法，即在玻璃基板上，先将五氧化二铌等高折射率材料通过磁控溅射镀到玻璃基板表面，然后再覆上SiO₂等低折射率材料层，最后再覆上ITO层。但是这种方法仅单面采用两层介质层来达到消影效果的膜系结构，其表面的ITO面电阻一般会比较高，如果降低面电阻，则会使整体透过率降低，而且很难达到满意的消影效果，因此这种结构的ITO玻璃，其面电阻一般在60Ω/□以上，不太适合对线性电阻要求较高的电容式触摸屏。

发明内容

本发明的目的在于提供一种消影增透导电玻璃，该导电玻璃面电阻低、透过率高，使触摸屏具有良好的显示效果。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

消影增透导电玻璃，包括玻璃基板，玻璃基板顶面由下至上依次层叠有上TiO₂膜层、上SiO₂膜层与ITO膜层，ITO膜层蚀刻有电极图案；玻璃基板底面由上至下依次层叠有第一下TiO₂膜层、第一下SiO₂膜层、第二下TiO₂膜层与第二下SiO₂膜层；所述上TiO₂膜层的厚度为5～10nm、上SiO₂膜层的厚度为40～60nm、ITO膜层的厚度为20～40nm；所述第一下TiO₂膜层的厚度为12～18nm、第一下SiO₂膜层的厚度为25～35nm、第二下TiO₂膜层的厚度为95～135nm、第二下SiO₂膜层的厚度为70～100nm。

进一步的，所述玻璃基板的厚度为0.3～1.1mm。

本发明的有益效果是，利用折射率不同的上TiO₂膜层与上SiO₂膜层起到消影作用，玻璃基板底部交错的四层介质层起到减反増透的效果，并由各膜层厚度的配合，一方面可提高产品的透过率，减少反射率，使得触摸屏在强光下也可以清晰的显示；另一方面，在保证和提高现有功能的前提下，使得ITO膜层的面电阻向更低的方向发展，可获得60Ω/□以下的产品，从而得到光电性能更加优良的电容式触摸屏。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明：

图1是发明的结构示意图；

图2是本发明中ITO膜层蚀刻前后的可见光透射光谱对比图；

图3是是发明中ITO膜层蚀刻前后的可见光反射光谱对比图。

具体实施方式