[发明专利]一种基于石墨烯FP腔的可调谐激光器在审
申请号: | 201611178147.5 | 申请日: | 2016-12-19 |
公开(公告)号: | CN106654852A | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 陆荣国;刘天良;田朝辉;杨忠华;叶胜威;夏瑞杰;张尚剑;刘永 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01S5/042 | 分类号: | H01S5/042;H01S5/14;H01S5/343 |
代理公司: | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司51230 | 代理人: | 李龙 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 石墨 fp 调谐 激光器 | ||
技术领域
本发明属于光电子器件技术领域,具体涉及一种基于石墨烯FP腔的可调谐激光器。
背景技术
随着微电子器件的尺寸日益逼近其物理极限,旨在将光子学器件和电子学器件集成在硅片上的硅基光电子学得到快速发展,人们希望利用硅的资源丰富,折射率大,对通信波段透明,机械性能好,易加工等特点来制作各种光电子器件,解决现有各种器件成本较高,难于集成等问题。其中,虽然硅为间接带隙半导体,发光效率较低,不适合直接作为发光源,但是由于硅材料的巨大应用潜力,人们并未放弃对硅基激光器的研究,目前已有报道成功利用各种方法在硅上生长III-V族材料,获得高性能的硅基激光器。硅基激光器的成功制备使得硅材料在激光器中的应用取得巨大进步,利用硅材料制备激光器将大大降低器件的成本,易于同其他器件的集成,有利于光纤通信的快速发展。
早期可调谐激光器主要采用的是外腔光栅结构,虽然该结构激光器调谐范围广,激光脉冲线宽窄,但是外腔光栅结构在调谐波长时需要旋转和移动光栅,使得调谐速度慢,操作复杂,同时使激光器的封装成本增大。
石墨烯是由碳原子构成的二维新材料,是典型的零带隙的半导体,其对光波测吸收系数为2.3%,导热系数达到5300w/m.K,比金刚石和碳纳米管更高,室温下电子迁移率达到光速的1/300,电阻率只有10-6Ω·㎝,比铜和银电阻率更低,是世界上电阻率最小的材料,同时在石墨烯上外加一个电场,可以改变其折射率的实部和虚部,因此可将石墨烯运用到硅基器件中,制成性能稳定、快速响应和对宽带光进行作用的硅基器件。
为了提高激光器的调谐速度,减少器件的成本,可以将外腔光栅结构制作为可调谐光栅,通过调谐外腔光栅的谐振波长,从而改变激光器的输出光波长。一种基于石墨烯的可调谐硅波导光栅可以用来作为激光器的外腔光栅结构,该可调谐波导光栅的截面图如图2所示,在脊型硅波导的脊区铺设上下两层石墨烯,该石墨烯层16和19被制成叉指电极形式铺在硅波导的脊区上,石墨烯周期性地分布在脊型硅波导的脊区中,通过上下电极22外加电场来调控石墨烯的折射率,使该波导光栅的有效折射率随外加电场的变化呈周期性分布,从而形成可调谐波导光栅。该结构从下到上依次为衬底层,硅波导脊型区域层,隔离层,石墨烯层和电极,一般衬底层材料为二氧化硅,隔离层材料为硅氧化物、硅氮氧化物或硼氮化物,石墨烯层石墨烯为单层石墨烯,电极材料为金、银、铂或铜。
发明内容
本发明为了解决现有技术中存在的激光器输出波长范围窄,调谐速度慢,器件结构不紧凑和难于集成等问题。
为解决上述技术问题,本发明所采用的技术方案是:
一种基于石墨烯FP腔的可调谐激光器,包括从下至上依次设置的衬底、缓冲层、下光包层、下势垒层、有源层、上势垒层、上光包层和欧姆接触层,下势垒层上还设置有分别位于有源层两侧的第一光栅和第二光栅;
第一光栅和第二光栅采用硅波导—石墨烯的可调谐波导光栅,所述硅波导—石墨烯的可调谐波导光栅,包括衬底,所述衬底上设置有脊形硅波导,脊形硅波导包括脊区下半部分波导和脊区上半部分矩形波导,脊形硅波导包括脊区下半部分波导覆盖有包层,脊区下半部分波导上从下至上依次设置有第一隔离介质层、第一石墨烯层、第三隔离介质层、第二石墨烯层、第五隔离介质层,第五隔离介质层设置脊区上半部分矩形波导;
第一石墨烯层与第二石墨烯层均为叉指电极结构,并通过电极引出,叉指电极结构的叉指等间距周期设置。
上述技术方案中,所述第一光栅和第二光栅有相同的谐振波长,所述第一光栅对第一光栅和第二光栅的谐振波长的光具有高反射性,所述第二光栅对第一光栅和第二光栅的谐振波长具有部分反射特性。
上述技术方案中,衬底为n型掺杂硅。
上述技术方案中,所述的基于石墨烯FP腔的可调谐激光器,其特征在于所述缓冲层材料为磷化铟(InP)或砷化镓(GaAs)。
上述技术方案中,所述的基于石墨烯FP腔的可调谐激光器,其特征在于所述上光包层和下光包层材料为InGaAsP。
上述技术方案中,所述的基于石墨烯FP腔的可调谐激光器,其特征在于所述上势垒层和下势垒层材料为InP、InGaAsP、InGaAs或GaAs。
上述技术方案中,有源层材料为InGaAs量子阱、InGaAs量子点或InGaAsP量子阱。
上述技术方案中,欧姆接触层材料为InGaP或GaAs。
上述技术方案中,叉指电极结构的叉指(15)沿波导光传输方向周期分布。
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