[发明专利]用于HDP-CVD的具有挡板和喷嘴的冷却气体进料块

权利要求书

1.一种冷却气体进料块，所述冷却气体进料块包括：

主体，所述主体包括：

主中心部分，所述主中心部分具有最顶表面、顶部表面和底表面；以及

凸缘，所述凸缘从所述主中心部分的所述底表面向外延伸；

气体通道，所述气体通道穿过所述主体设置，所述气体通道具有在所述主中心部分的所述顶部表面中形成的入口和在所述主中心部分的所述底表面中形成的出口；以及

中心冷却剂通道，所述中心冷却剂通道包括：

第一部分，所述第一部分具有在所述凸缘的侧壁上形成的入口；以及

第二部分，所述第二部分耦接至所述第一部分，所述第二部分具有在所述主中心部分的所述最顶表面中形成的出口。

2.如权利要求1所述的冷却气体进料块，进一步包括：

外部冷却剂通道，所述外部冷却剂通道设置成相对于所述主中心部分的中心线在所述中心冷却剂通道外侧。

3. 如权利要求2所述的冷却气体进料块，其中所述外部冷却剂通道进一步包括：

第一弧形歧管；以及

第二弧形歧管，所述第二弧形歧管通过内部导管流体连接至所述第一弧形歧管。

4.如权利要求2所述的冷却气体进料块，其中所述气体通道在所述外部冷却剂通道与所述中心冷却剂通道之间。

5.如权利要求1所述的冷却气体进料块，其中所述中心冷却剂通道的所述第二部分形成在所述主中心部分的中心线上。

6.如权利要求5所述的冷却气体进料块，其中所述第二部分未穿过所述底表面。

7.如权利要求1所述的冷却气体进料块，其中所述第一部分平行于所述底表面。

8.如权利要求1所述的冷却气体进料块，其中所述主中心部分具有在所述底表面中形成的凹陷。

9.如权利要求8所述的冷却气体进料块，其中所述第一部分邻近所述凹陷。

10.一种处理腔室，所述处理腔室包括：

腔室主体；

盖，所述盖设置在所述腔室主体上；

至少一个气体冷却进料块，所述气体冷却进料块耦接至所述腔室主体和盖的至少一者的外部，所述气体冷却进料块包括：

主体，所述主体包括：

主中心部分，所述主中心部分具有最顶表面、顶部表面和底表面；以及

凸缘，所述凸缘从所述主中心部分的所述底表面向外延伸；

气体通道，所述气体通道穿过所述主体设置，所述气体通道具有在所述主中心部分的所述顶部表面中形成的入口和在所述主中心部分的所述底表面中形成的出口；以及

中心冷却剂通道，所述中心冷却剂通道包括：

第一部分，所述第一部分具有在所述凸缘的侧壁上形成的入口；以及

第二部分，所述第二部分耦接至所述第一部分，所述第二部分具有在所述主中心部分的所述最顶表面中形成的出口。

11.如权利要求10所述的处理腔室，进一步包括：

喷嘴，所述喷嘴设置在所述腔室主体的内部上，其中至所述腔室主体的所述内部中的气体通道延伸穿过所述气体冷却进料块和所述喷嘴。

12.如权利要求11所述的处理腔室，其中所述喷嘴具有暴露于所述腔室主体的所述内部的纹理。

13.如权利要求12所述的处理腔室，其中所述纹理具有1.18微米的平均粗糙度。

14.如权利要求10所述的处理腔室，进一步包括：

挡板，所述挡板设置在所述腔室主体的内部上，其中至所述腔室主体的所述内部中的气体通道延伸穿过气体冷却进料块和所述挡板。