[发明专利]一种基于纳米颗粒的光伏电池表面陷光结构的制造工艺在审
申请号: | 201611168608.0 | 申请日: | 2016-12-16 |
公开(公告)号: | CN106601836A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 王珺;郭群超;朱红英;丁云飞;朱晨烜 | 申请(专利权)人: | 上海电机学院 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236;B82Y30/00 |
代理公司: | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司31227 | 代理人: | 俞晨波 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 纳米 颗粒 电池 表面 结构 制造 工艺 | ||
1.一种基于纳米颗粒的光伏电池表面陷光结构的制造工艺,其特征在于,包括如下步骤:
1)采用二氧化硅制作自组装掩模版,并将正酸乙酯和乙醇溶液混合,在自组装掩模版制作出二氧化硅纳米颗粒自组装掩模版;
2)二氧化硅纳米颗粒自组装掩模版,对已经扩散好PN的硅片进行刻蚀,再在硅片的表面进行陷光结构的刻蚀,以制作硅微米柱阵列。
2.根据权利要求1所述的基于纳米颗粒的光伏电池表面陷光结构的制造工艺,其特征在于,所述二氧化硅纳米颗的尺寸与正酸乙酯和乙醇溶液的配比、反应温度和磁力搅拌器的转速相关。
3.根据权利要求1所述的基于纳米颗粒的光伏电池表面陷光结构的制造工艺,其特征在于,所述陷光结构的形态与刻蚀的时间相关。
4.根据权利要求1所述的基于纳米颗粒的光伏电池表面陷光结构的制造工艺,其特征在于,所述刻蚀完成后,需通过HF与HNO3的混合酸溶液对硅微米柱阵列进行修饰,将其表面的缺陷层腐蚀掉,并根据陷光结构设计需要延长或缩短混合酸溶液对微米柱阵列的修饰时间。
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