[发明专利]涂布制品和制造方法有效
申请号: | 201611166640.5 | 申请日: | 2016-12-16 |
公开(公告)号: | CN107022758B | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | A.J.德托尔;L.阿德尔什塔恩;T.M.比格洛夫;R.迪多米奇奥;A.W.恩格;J.A.鲁德;M.J.维默 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | C23C24/04 | 分类号: | C23C24/04;C23C4/073;C23C4/129;C23C4/134;F01D5/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 徐晶;罗文锋 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制品 制造 方法 | ||
1.一种制品,其包含:
包含沉淀物增强合金的基材,所述合金包含
a) γ'沉淀物的群,所述群具有多峰尺寸分布且至少一个峰对应于小于100纳米的尺寸;或
b) 具有小于300纳米的中值尺寸的γ''沉淀物的群;
和
布置在所述基材上的涂层,其中所述涂层包含铝、铬和M,其中M为选自镍、钴和铁中的至少一种元素,且其中所述涂层还包含多个现有颗粒边界且其中所述涂层的至少一部分基本上不含快速固化的伪影。
2.权利要求1的制品,其中至少10体积%的涂层基本上不含快速固化的伪影。
3.权利要求1的制品,其中至少50体积%的涂层基本上不含快速固化的伪影。
4.权利要求1的制品,其中所述基材包含镍基超合金、镍铁基超合金或钴基超合金。
5.权利要求1的制品,其中所述基材包含Rene 88、Rene 88DT、Rene 104、Rene 65、Rene95、RR1000、Udimet 500、Udimet 520、Udimet 700、Udimet 720、Udimet 720LI、Waspaloy、Astroloy、Discaloy、AF115、ME16、N18或IN100。
6.权利要求1的制品,其中所述基材包含IN718合金、IN 725合金或IN706合金。
7.权利要求1的制品,其中所述涂层包含至少5重量%铝。
8.权利要求1的制品,其中所述涂层包含MCrAlX组合物,其中X包含选自钇、铼、钽、钼、稀土元素、铪、锆、硅中的至少一种元素及其组合。
9.权利要求1的制品,其中所述涂层包含钴;28%-35%镍;17%-25%铬;5%-15%铝;和0.01-1%钇。
10.权利要求1的制品,其中所述涂层包含γ相和β相。
11.权利要求10的制品,其中所述涂层包含小于1体积%的σ相。
12.权利要求10的制品,其中所述γ相以所述涂层的至少25体积%的浓度存在。
13.权利要求12的制品,其中所述β相以所述涂层的至少10体积%的浓度存在。
14.权利要求1的制品,其中所述涂层与所述基材在界面直接接触布置,且其中在所述涂层和所述基材之间的相互扩散区域具有小于5微米的厚度。
15.权利要求1的制品,其中所述制品为燃气涡轮组合件的部件。
16.权利要求1的制品,其中所述制品为涡轮盘。
17.一种制品,其包含:
包含镍基超合金的基材,所述镍基超合金包含γ'沉淀物的群,所述群具有多峰尺寸分布且至少一个峰对应于小于100纳米的尺寸;和
在界面布置在所述基材上的涂层,所述涂层包含
a) MCrAlX组合物,其中M为选自镍、钴和铁中的至少一种元素,X包含选自钇、铼、钽、钼、稀土元素、铪、锆、硅中的至少一种元素及其组合,
b) 多个现有颗粒边界,和
c) 所述涂层的至少25体积%的γ相和所述涂层的10%-75体积%范围的β相;
其中至少50体积%的涂层基本上不含快速固化的伪影;和
其中从所述界面延伸到所述基材中的相互扩散区域具有小于5微米的厚度。
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