[发明专利]一种形成大面积均匀稳定锂膜流的结构在审
| 申请号： | 201611163691.2 | 申请日： | 2016-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN108206060A | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 张秀杰;潘传杰;许增裕 | 申请（专利权）人： | 核工业西南物理研究院 |
| 主分类号： | G21B1/13 | 分类号： | G21B1/13 |
| 代理公司： | 核工业专利中心 11007 | 代理人： | 高安娜 |
| 地址： | 610041 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 锂膜 弧形底壁 底壁 流系统 入口膜 液态锂 膜流 流体流动控制 平行连接 连接边 润湿性 上表面 下表面 凹陷 长边 凸起 收缩 | ||
【权利要求书】：
1.一种形成大面积均匀稳定锂膜流的结构，包括若干个相同的弧形底壁单元，其特征在于：所述弧形底壁单元的上表面为一个弧度较小连续变化的凸起的曲面，下表面为一个弧度较小连续变化的凹陷的曲面，相邻的两个弧形底壁单元1平行连接，连接边为长边。
2.如权利要求1所述的一种形成大面积均匀稳定锂膜流的结构，其特征在于：所述连接处的倒角范围是1mm-3mm。
3.如权利要求1所述的一种形成大面积均匀稳定锂膜流的结构，其特征在于：所述弧形底壁单元的厚度为1-3mm，d1宽度为40mm-80mm，高度为5mm-9m。
4.如权利要求1所述的一种形成大面积均匀稳定锂膜流的结构，其特征在于：弧形底壁单元由铁素体钢或钒合金固体材料制作形成。
5.如权利要求1-4所述的一种形成大面积均匀稳定锂膜流的结构，其特征在于：其宽度大于200mm，并且与单个弧形单元底壁宽度d1的比例为5:1至10:1。
6.如权利要求1-4所述的一种形成大面积均匀稳定锂膜流的结构，其特征在于：其布置倾斜角度大于30度，液态金属锂沿着其长边方向由上向下流动。
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