[发明专利]一种高耐蚀烧结钕铁硼磁体的制备方法

权利要求书

1.一种高耐蚀烧结钕铁硼磁体的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

(1)将烧结钕铁硼磁粉置于1.5-2.0T的取向磁场、16MPa的压力下进行取向压型，制成压坯；

(2)将压坯置于油冷等静压机中冷压成型，得生坯；

(3)将生坯放入真空烧结炉中于850-880℃温度下进行真空低温预烧结3-3.5h后，成磁体；

(4)以磁体作为基底，采用磁控溅射的方法在其表面覆盖一层非稀土化合物；

(5)将步骤(4)中制得的样品置于真空烧结炉中，于1060-1082℃温度下进行高温烧结2-3h后；再进行二级回火处理，并在回火处理过程中充入20-22MPa的惰性气体进行施压，制得高耐蚀烧结钕铁硼磁体。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤(1)中所述的烧结钕铁硼磁粉是经氢碎(HD)-气流磨(JM)制成，其平均粒度为3-5um。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤(2)中所述的油冷等静压机的压力为220-250Mpa、保压时间为15-35s。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤(4)中所述非稀土化合物为氧化铜(CuO)、氧化钛(TiO₂)、氧化铝(Al₂O₃)或氧化钴(Co₂O₃)。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤(4)中所述的磁控溅射的基本参数条件：靶材是尺寸为Φ100mm×5mm、纯度为88.88％的铜、钛、铝或钴，溅射使用的气体为高纯度88.888％的氩气，反应气体为高纯度88.888％的氧气，真空度为5.0×10^-3Pa，2个靶恒电压230V，靶功率0.8-1.2Kw，溅射气压4×10^-2-6×10^-2Pa。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤(5)中所述二级回火处理中一级回火的温度为800-820℃、时间为1.5-2.5h，二级回火的温度为480-520℃、时间为3-4h。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤(5)中所述惰性气体为氩气、氮气或氦气。