[发明专利]一种针对金钗石斛的栽培基质和栽培方法在审

专利信息
申请号: 201611152231.X 申请日: 2016-12-14
公开(公告)号: CN106718746A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 吕朝燕;彭榜容 申请(专利权)人: 遵义师范学院
主分类号: A01G31/00 分类号: A01G31/00
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 代理人: 汤东凤
地址: 563000 贵*** 国省代码: 贵州;52
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摘要:
搜索关键词: 一种 针对 金钗 石斛 栽培 基质 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种中药栽培技术,尤其涉及一种针对金钗石斛的栽培基质和栽培方法。

背景技术

金钗石斛(Dendrobium nobile lindl.)为兰科石斛属多年生附生草本植物,为常用珍贵中药。主要分布于热带、亚热带南方各省。金钗石斛,俗称“吊兰花”,为国家二类保护珍稀名贵中药材,植株微黄,形如钗,价比黄金,故名金钗石斛,是《中国药典》收载五大石斛品种之首,在《神农草本经》和《本草纲目》上早有记载,是石斛中的上品,名扬中外。《本草纲目》记载,石斛“其茎状如金钗之股,故有金钗石斛之称。处处有之,以蜀中者为胜,今蜀人栽之,呼为金钗花”。主治“伤中,除痹下气,补五脏虚劳赢瘦,强阴益精。久服,厚肠胃”。现代研究证实,石斛能提高人体免疫力,是一种前景可喜的免疫增强剂。同时,还具有抗癌、抗氧化、抗衰老,治疗萎缩性胃炎,白内障等多种功效。金钗石斛通常附生于树上或岩边石缝中,因其生长对环境有特殊的要求,种在泥土中难以存活。现有技术中,由于金钗石斛的生长条件较为特殊,因此,产量较低,需要一种新的方法诞生。

发明内容

本发明的目的就在于为了解决上述问题而提供一种针对金钗石斛的栽培基质和栽培方法。

本发明通过以下技术方案来实现上述目的:

本发明研发一种针对金钗石斛的栽培基质,由碎石料、木粉、蜂蜜、树叶、牛粪、苔藓、油枯、尿素和微量元素,所述碎石料的粒径为0.4mm左右,所述牛粪用腐熟的方法将其腐熟,将碎石料、木粉、蜂蜜、树叶、油枯、尿素和微量元素混合均匀后置入模具中,采用液压压缩机压缩成长宽高5cm的立方体型,作为栽培基质,栽培时根部覆盖所述牛粪和苔藓。

进一步,按重量比,所述碎石料占50%、所述木粉占20%、所述蜂蜜占4%、所述树叶占10%、所述油枯占10%、所述尿素占5.9%和所述微量元素占0.1%,所述牛粪和所述苔藓适量,以将其覆盖厚度1cm左右为宜。

具体的,所述微量元素为含有氮、磷、钾、钙、镁、硫、铜、锌、锰、铁、腐殖酸、氨基酸的微量元素。

本发明研发一种针对金钗石斛的栽培方法,包括以下步骤:

(1)选用健康的幼苗,在每年的3月至4月之间进行栽种;

(2)种植前在苗地进行遮阴搭棚,双侧通风,在苗圃上设置距离30*30cm的窝;

(3)将四颗幼苗的根部绑缚在立方体型的培育基质的四个边上,再将培育基质放置在苗圃上的窝中,根部覆盖腐熟的牛粪,腐熟的牛粪上覆盖苔藓,即可完成栽培。

本发明的有益效果在于:

本发明是一种针对金钗石斛的栽培基质和栽培方法,与现有技术相比,本发明采用压缩的方式,将营养物质压缩在碎石料中,使金钗石斛能够吸取碎石料中的营养,通过遮阴的方式种植,使金钗石斛满足依附石料和半阴半阳的环境,进而适应规模化的种植,提高产量,具有推广应用的价值。

具体实施方式

下面对本发明作进一步说明:

本发明一种针对金钗石斛的栽培基质,由碎石料、木粉、蜂蜜、树叶、牛粪、苔藓、油枯、尿素和微量元素,所述碎石料的粒径为0.4mm左右,所述牛粪用腐熟的方法将其腐熟,将碎石料、木粉、蜂蜜、树叶、油枯、尿素和微量元素混合均匀后置入模具中,采用液压压缩机压缩成长宽高5cm的立方体型,作为栽培基质,栽培时根部覆盖所述牛粪和苔藓。

进一步,按重量比,所述碎石料占50%、所述木粉占20%、所述蜂蜜占4%、所述树叶占10%、所述油枯占10%、所述尿素占5.9%和所述微量元素占0.1%,所述牛粪和所述苔藓适量,以将其覆盖厚度1cm左右为宜。

具体的,所述微量元素为含有氮、磷、钾、钙、镁、硫、铜、锌、锰、铁、腐殖酸、氨基酸的微量元素。

本发明一种针对金钗石斛的栽培方法,包括以下步骤:

(1)选用健康的幼苗,在每年的3月至4月之间进行栽种;

(2)种植前在苗地进行遮阴搭棚,双侧通风,在苗圃上设置距离30*30cm的窝;

(3)将四颗幼苗的根部绑缚在立方体型的培育基质的四个边上,再将培育基质放置在苗圃上的窝中,根部覆盖腐熟的牛粪,腐熟的牛粪上覆盖苔藓,即可完成栽培。

以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征及本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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